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GSL-CKJS-560-B2磁控濺射

直接聯(lián)系

沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

遼寧

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報價:

面議

關(guān)注度:

361

產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品簡介:高真空濺射可用于金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多種新型薄膜材料的制備,且具有設(shè)備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優(yōu)點,可廣泛用于大專、科研院所的薄膜材料研究、制備。

產(chǎn)品型號

GSL-CKJS-560-B2磁控濺射

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25±15,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)

2、電:AC380V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注/氬氣(純度99.99%以上),需自備/氬氣氣瓶(自帶?10mm雙卡套接頭)及減壓閥

4、場地設(shè)備尺寸3500×1600mm,承重1000kg以上

5、通風(fēng)裝置:需要

主要特點

1、真空度高。

2、可制備多種薄膜,金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等,應(yīng)用廣泛。

3、體積小,操作簡便。

4、清理安裝便捷。

5、控制可選一體化觸摸屏控制

技術(shù)參數(shù)

1、主濺射室尺寸:?560×355mm梨形真空室

2主濺射室真空度5×10-6Pa

3、進樣室尺寸: ?255×430mm

4、進樣室真空度5×10-4Pa

5永磁靶5套,靶材尺寸φ2,各靶射頻與直流濺射兼容(其中1個靶可濺射鐵磁材料

6、公轉(zhuǎn)樣品臺6個工位,5個水冷工位,1個加熱工位,加熱工位**溫度600℃±1℃

7、樣品尺寸:φ1,可放置6片

8、基片可加-200V負(fù)偏壓

9進樣室可一次性安裝6片樣品,可對被鍍樣品進行退火處理,退火溫度800℃±1℃

10、進樣室可對基片進行反濺清洗

11、進樣室和主濺射室之間通過磁力樣品機構(gòu)進行樣品傳遞

產(chǎn)品規(guī)格

整機尺寸:2700×900mm×2000mm;

標(biāo)準(zhǔn)配件

1

電源控制系統(tǒng)

1

2

真空獲得系統(tǒng)

1

3

真空測量裝置

1

產(chǎn)品咨詢

GSL-CKJS-560-B2磁控濺射

沈陽科晶自動化設(shè)備有限公司

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