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產(chǎn)品簡介:VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀靶頭尺寸為2英寸,且樣品臺的高度可以調(diào)節(jié)。此款鍍膜儀設(shè)計主要是制作一些金屬薄膜,**制膜面積為4英寸。
產(chǎn)品型號 | VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀 |
主要特點 | 1、特別為SEM樣品鍍導(dǎo)電性薄膜設(shè)計。 2、體積小巧,操作簡單,容易上手。 3、擁有小型磁控靶頭,可以鍍金銀鉑等金屬。 |
技術(shù)參數(shù) | 1、輸入電源:220V AC 50/60Hz 2、功率:200W 3、輸出電壓:500 VDC 4、濺射電流:0-50 mA可調(diào) 5、濺射時間:0-120S可調(diào) 6、濺射腔體 1)采用石英腔體,尺寸:166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H 2)密封:采用不銹鋼平法蘭的O形密封圈 7、濺射頭&樣品臺 l)濺射頭可安裝靶材直徑為2英寸,厚度0.1 - 2.5mm 2)濺射時間1-120S可調(diào) 3)儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺,其與濺射頭之間距離30-80mm可調(diào)。 4)可選購加熱型樣品臺,其**加熱溫度為500℃ 5)安裝有一可手動操作的濺射擋板,可進(jìn)行預(yù)濺射 6)**可制膜的直徑為:4英寸(僅供參考,詳情請點擊) 8、真空系統(tǒng) l)安裝有KF25真空接口 2)數(shù)字真空壓力表(Pa) 3)此系統(tǒng)可通入氣體運(yùn)行 4)< 1.0E-2 Torr (采用機(jī)械泵) 5)< 1.0E-5 Torr(采用渦旋分子泵) 9、進(jìn)氣 l)設(shè)備上配1/4英寸進(jìn)氣口,方便連接氣瓶 2)設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕,方便調(diào)節(jié)氣流 10、靶材 l)靶材尺寸要求:Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度) 2)設(shè)備標(biāo)配為銅靶 11、產(chǎn)品外型尺寸 L460 mm × W 330 mm × H 540 mm 凈重:20 kg(不包括泵) |
可選 | 1、可在本公司選購各種靶材 對于濺射各種金屬靶材,需要摸索*理想的濺射參數(shù),下表是本公司實驗所設(shè)置的參數(shù),歡迎您帶料來科晶實驗室摸索工藝(僅供參考) 靶材種類真空度(Pa)濺射電流(mA) 時間 (s)濺射次數(shù)Au31-3328-301001Ag312810012、可在本公司選購各種真空泵 3、可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上 |
質(zhì)量認(rèn)證 | CE認(rèn)證 |
質(zhì)保期 | 一年保修,終身技術(shù)支持。 特別提示:1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。 |
使用提示 | l、有時為了達(dá)到理想的薄膜厚度,可能需要多次濺射鍍膜 2、在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈 3、要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合,請在濺射前清潔基材表面 4、超聲波清洗(詳細(xì)參數(shù)點擊下面圖片):(1)丙酮超聲,(2)異丙醇超聲-去除油脂,(3)吹氮氣干燥,(4)真空烘箱除去水分。 5、等離子清洗(詳細(xì)參數(shù)點擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學(xué)鍵,可祛除額外的污染物。 6、制造一個薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力。 7、請使用>5N純度氬氣等離子體濺射 8、濺射鍍膜機(jī)可以放入Ar或N2氣體手套箱中濺射 9、由于能量低,該模型不適用于涂層的輕金屬材料如Al,Mg,Zn,Ni。請考慮我們的磁控濺射鍍膜機(jī)或熱蒸發(fā)鍍膜機(jī)。 超聲波清洗機(jī)等離子清洗機(jī)大功率磁控濺射儀 蒸發(fā)鍍膜儀 |
警告 | 注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機(jī)體。 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥(不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。 濺射頭連接到高電壓。 為了安全,操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶頭。 |
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