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全自動原子層沉積系統(tǒng)(ALD)

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香港電子器材有限公司

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產(chǎn)品介紹

Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗(yàn)。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué),05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah, 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購,并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止,Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗(yàn),全球已安裝五百多臺ALD設(shè)備。

方式: Thermal batch ALD

優(yōu)勢:完全自動化的批量生產(chǎn)系統(tǒng),*強(qiáng)生產(chǎn)能力(每月*多40000片),成本低,產(chǎn)量高,極優(yōu)的一致性針對脆弱/溫度敏感的襯底解決方案,包括LNO/LTO/玻璃模塊化熱管理,以實(shí)現(xiàn)*強(qiáng)工藝靈活性和產(chǎn)量

薄膜: 氧化物薄膜,包含封裝層、光學(xué)涂層氧化物薄膜,包含封裝層、光學(xué)涂層

反應(yīng)腔體大小: 無縫晶片尺寸轉(zhuǎn)換能力高達(dá)300mm

產(chǎn)品咨詢

全自動原子層沉積系統(tǒng)(ALD)

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