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Veeco(之前稱之為Cambridge Nanotech)已經(jīng)有15年以上的ALD研發(fā)生產(chǎn)經(jīng)驗。2003年Cambridge Nanotech成立于哈佛大學(xué)，05年搬到Boston并生產(chǎn)出Thermal ALD - Savannah， 之后生產(chǎn)出Plasam ALD - Fuji、批量生產(chǎn)ALD-Phoenix。2017年被Veeco收購，并更新了Batch HVM ALD - Firebird。至今為止，Veeco在ALD設(shè)備已有15年多的經(jīng)驗，全球已安裝五百多臺ALD設(shè)備。

方式: Thermal ALD (plasma option)

優(yōu)勢: 性能強，成本小，易于操作和維護(hù)

薄膜: 氧化物Al2O3， HfO2， La2O3， Li2O， Li7La3Zr2O12， LiFePO4， SIO2， TiO2， ZnO， ZrO2， Ta2O5， In2O3， SnO2， Fe2O3， MnOx， Nb2O5， MgO， Er2O3， WOx， MoO3， V2O3 硫化物ZnS， SnS， Cu2S， In2S3， Cu2ZnSnS4，PbS， CoS等

反應(yīng)腔體大小: S100: 可達(dá)100 mm / S200: 可達(dá)200 mm / S300: 可達(dá)300 mm

設(shè)備尺寸: S100: 585 x 560 x 980 mm / S200: 585 x 560 x 980 mm / S300: 686 x 560 x 980 mm

操作模式: 連續(xù)模式(高速) / 曝光模式(超高深寬比)

功率: 115 VAC / 220 VAC，1900 W (不包含泵) (S300 2000W)

*強溫度: S100: RT - 400 °C / S200: RT - 350 °C / S300: RT - 350 °C

沉積均一性: Al2O3：<1% (1σ)

循環(huán)時間: <2s per cycle with Al2O3 at 200°C

兼容: 標(biāo)準(zhǔn)二端口，可增加至六端口。每一個源瓶均可放固態(tài)/液態(tài)/氣態(tài)前驅(qū)體，可獨立加熱至200°C

閥門: 高速ALD閥門，10ms響應(yīng)

前驅(qū)體源瓶: 獨立可加熱50ml不銹鋼氣瓶，可選擇更大容量

載氣/排氣: N2，100SCCM

原位分析選項: 原位QCM， 原位橢便儀， 殘余氣體分析， LVPD， 批量生產(chǎn)， 集成手套箱等， 臭氧發(fā)生器， 批量生產(chǎn)， 自組裝單層膜(SAMs)顆粒鍍膜， 等離子體加強