粉體行業(yè)在線展覽
CX-RMW 臥式乳化分散系列-機械密封
面議
上海創(chuàng)行
CX-RMW 臥式乳化分散系列-機械密封
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CX-RMW 臥式乳化分散系列-機械密封
密封特征:雙端面集裝式+無死角+靜止式補償
密封應(yīng)用:電池材料、新材料、涂料油墨、納米農(nóng)藥、食品日化、等
設(shè)備類型:葉片式、渦輪式、多級乳化設(shè)備
運行范圍:
軸徑:d=16mm至150mm
溫度:T=-40℃至+280℃
壓力:P=≤ 1.6Mpa
轉(zhuǎn)速:V=≤6500r/ms
CX-GMJ-P 干運行/攪拌釜系列-機械密封
CX-GMJ 干運行攪拌釜系列-機械密封
CX-JLB 鋰電漿料泵系列-機械密封
CX-RML 立式乳化研磨系列-機械密封
CX-RMW 臥式乳化分散系列-機械密封
CX-SML立式砂磨機系列-機械密封
CX-SMW
CX-ST-D 底入式攪拌器密封
CX-M481/205/206/2004/2005/2006/2007機械密封
平衡型/非平衡型/單端面/雙端面/散裝式密封
CX-SRM/204/204B/半集裝密封
CX-MRD 側(cè)/臥式攪拌器密封