粉體行業(yè)在線展覽
CMD2000/4
5-10萬(wàn)元
IKN
CMD2000/4
2684
0-10微米
IKN定轉(zhuǎn)子間隙一般為0.2-0.3mm,而普通乳化機(jī)一般為0.5-0.7mm,IKN定轉(zhuǎn)子更加精密,對(duì)于物料的細(xì)化效果更好。另外,IKN乳化機(jī)配置三組定轉(zhuǎn)子,物料通過(guò)工作腔體,相當(dāng)于被剪切處理了3遍,乳化分散均質(zhì)更徹底。
化工 醫(yī)藥 食品
北京 江西
納米高剪切膠體磨,納米膠體磨,小型納米膠體磨,納米研磨機(jī),高剪切膠體磨,膠體磨價(jià)格
納米高剪切膠體磨 納米膠體磨是由電動(dòng)機(jī)通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
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根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求, IKN 在CM2000系列膠體磨的基礎(chǔ)上又開發(fā)了一款CMS2000納米超高速膠體磨,轉(zhuǎn)子的線速度可以達(dá)到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒徑分布更小。
納米高剪切膠體磨CMS2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,*小的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到14000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。
ER2000
ERS2000
CMD2000
ERX2000
ER2000
CM2000
ERS2000
CMD2000
ERX2000
ERS2000
ERS2000
PSI-20、40
ESB-500X
PENGYI
中試型
重力均化機(jī)
微射流均質(zhì)機(jī)
BILON-T
GYB180-18D
MP100
SW
ZYMC-580HV
GN系列