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XRD-Mill McCrone是專門為后續(xù)X射線衍射（XRD）分析的樣品制備而開發(fā)的。該研磨儀可用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)和材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及科學(xué)研究的應(yīng)用。

由于其獨(dú)特的研磨運(yùn)動(dòng)，XRD-Mill McCrone對(duì)這種分析方法特別有效。48個(gè)圓柱形研磨元件通過摩擦輕輕地研磨樣品。其結(jié)果是研磨時(shí)間短，幾乎沒有樣品損失，而且粒徑分布特別窄，因此可以進(jìn)行非常好的相位分析。
完整保留了晶格結(jié)構(gòu)，為有效X射線衍射分析提供了先決條件。

研磨容器由一個(gè)容量為125毫升的聚丙烯罐組成，配有一個(gè)螺旋蓋的無墊片聚乙烯封口。罐子里裝滿了48個(gè)相同的圓柱形研磨元件的有序排列，有瑪瑙、氧化鋯或剛玉等材質(zhì)。實(shí)現(xiàn)微粉化的研磨時(shí)間在3到30分鐘之間。典型的樣品量在2到4毫升之間。
為了后續(xù)用于X射線衍射分析的有機(jī)樣品制備，我們還提供了由瑪瑙制成的研磨套件。

應(yīng)用實(shí)例

nitrides, 云母, 建筑原料, 植物原料, 水泥, 玻璃, 石板, 礦物, 硼化物, 碳化物, 粘土, 金屬, 陶瓷

優(yōu)點(diǎn)

• 研磨過程中晶格被保留。

• 粒徑分布窄。

• 幾乎沒有交叉污染。

• 緊湊、桌面型機(jī)型

• 可調(diào)研磨功率(4步)

• 適合于干磨和濕磨。

• 清洗方便。

• 免維護(hù)。

• 運(yùn)行安靜。

性能指標(biāo)

受樣品材料性質(zhì)和儀器配置/設(shè)定的影響

作用原理

XRD-Mill McCrone主要依靠摩擦力研磨樣品。48個(gè)圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排，每排6件。 在運(yùn)行過程中，罐子做圓周運(yùn)動(dòng)，研磨塊把樣品從小于0.5 mm研磨到亞微米水平（通常小于10 um）。 由于研磨過程很溫和，所以晶格可以完整保留。這使得XRD-Mill McCrone成為X射線衍射分析樣品制備很好的選擇。