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T型原子層沉積鍍膜設(shè)備

T型原子層沉積鍍膜設(shè)備

直接聯(lián)系

北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司

北京

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

面議

品牌:

維意真空

型號(hào):

T型原子層沉積鍍膜設(shè)備

關(guān)注度:

1352

創(chuàng)新點(diǎn):

先進(jìn)的軟件控制系統(tǒng):系統(tǒng)集工藝配方、參數(shù)設(shè)置、權(quán)限設(shè)定、互鎖報(bào)警、狀態(tài)監(jiān)控等功能于一體。

產(chǎn)品介紹

T型原子層沉積鍍膜設(shè)備


  一、設(shè)備概述:

  T-ALD原子層沉積系統(tǒng)是專(zhuān)門(mén)為科研和工業(yè)小型化量產(chǎn)用戶(hù)而設(shè)計(jì)的多片沉積系統(tǒng)。該系統(tǒng)電氣完全符合CE標(biāo)準(zhǔn),廣泛應(yīng)用于微電子、納米材料、光學(xué)薄膜、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域。

  二、產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):

  先進(jìn)的軟件控制系統(tǒng):系統(tǒng)集工藝配方、參數(shù)設(shè)置、權(quán)限設(shè)定、互鎖報(bào)警、狀態(tài)監(jiān)控等功能于一體。

  三、技術(shù)指標(biāo):

  基片尺寸 12英寸及以下尺寸

  基片加熱溫度 室溫~300℃

  前驅(qū)體源路數(shù) 標(biāo)準(zhǔn)3路前驅(qū)體管路,可選配

  前驅(qū)體管路溫度 室溫~200℃,控制精度±0.1℃

  源瓶加熱溫度 室溫~200℃,控制精度±0.1℃

  ALD閥 Swagelok快速高溫ALD專(zhuān)用閥

  本底真空<5x10-3Torr,進(jìn)口防腐泵

  載氣系統(tǒng) N2或者Ar

  長(zhǎng)模式 連續(xù)和停留沉積模式任意選擇

  控制系統(tǒng) PLC+觸摸屏或者顯示器

  電源 50-60Hz,220V/20A交流電源

  沉積非均勻性 非均勻性<±1%

  設(shè)備尺寸 600mm x 600mm x 1100mm

  四、可沉積薄膜種類(lèi):

  單 質(zhì):Co, Cu, Ta, Ti, W, Ge, Pt, Ru, Ni, Fe…

  氮化物:TiN, SiN, AlN, TaN, ZrN, HfN, WN …

  氧化物:TiO2, HfO2, SiO2, ZnO, ZrO2, Al2O3, La2O3, SnO2…

  其它化合物:GaAs, AlP, InP, GaP, InAs, LaHfxOy, SrTiO3,SrTaO6…

  五、ALD應(yīng)用實(shí)例:

  存儲(chǔ)容性電介質(zhì),銅互連中高深寬比擴(kuò)散阻擋層,OLED無(wú)針孔鈍化層,MEMS的高均勻鍍膜,納米多孔結(jié)構(gòu)鍍膜,特種光纖摻雜,太陽(yáng)能電池,平板顯示器,光學(xué)薄膜,其它各類(lèi)特殊結(jié)構(gòu)納米薄膜。


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產(chǎn)品咨詢(xún)

T型原子層沉積鍍膜設(shè)備

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T型原子層沉積鍍膜設(shè)備 - 1352
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