真空電弧爐

主要用途：

　　本設(shè)備可以在不破壞真空或是保護(hù)氣氛的情況下進(jìn)行樣品的反轉(zhuǎn)熔煉，可以同時(shí)制備多個(gè)樣品(7個(gè)以下)，用于新型合金材料的制備、提純及混合應(yīng)用，也可以用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，電弧法制備大塊非晶材料。本設(shè)備采用雙層水冷結(jié)構(gòu)，配備水冷循環(huán)機(jī)(加去離子水)使設(shè)備可以快速冷卻，適用于高校、科研院所及企業(yè)進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

　　系統(tǒng)組成:

　　①設(shè)備前門(mén)尺寸Φ120mm，在前門(mén)上開(kāi)CF35觀察窗，方便觀察電極奇虎狀態(tài);

　?、谠谇皇疑喜吭O(shè)前后觀察窗，方便全方位觀測(cè)起熔狀態(tài);

　?、壅婵帐摇~坩堝、電極均采用水冷方式進(jìn)行冷卻;

　?、茈姌O采用方向盤(pán)式設(shè)計(jì)，轉(zhuǎn)動(dòng)靈活，360度無(wú)死角;

　?、菰O(shè)備配有機(jī)械手，在不破壞氣氛或真空條件下可進(jìn)行多次熔煉，使材料融合更更均勻;

　?、捋釄宄叽缂皵?shù)量可根據(jù)客戶要求靈活定制，數(shù)量*多不超過(guò)七個(gè)，坩堝直徑25mm，坩堝數(shù)量越少，坩堝直徑可適當(dāng)增大;

　?、咄獠坎捎肔ED照明，避免了以往真空腔體內(nèi)部使用烘烤燈出現(xiàn)的污染和易損壞、不方便維護(hù)缺陷;

　?、嗳蹮挏囟瓤蛇_(dá)到4000℃，對(duì)大部分金屬都可以進(jìn)行熔煉;

　?、峋邆湮T功能，使融化材料能直接成型;

　?、馕≯釄迥＞唠p層水冷結(jié)構(gòu)，可以對(duì)材料迅速淬冷。

　　技術(shù)指標(biāo)：

　　主要由真空獲得及測(cè)量系統(tǒng)，電弧熔煉、工作氣路、水冷系統(tǒng)、電控系統(tǒng)及安裝機(jī)臺(tái)等組成。

　　電弧熔煉室:立式圓筒型真空室，尺寸φ300mmX320mm

　　真空系統(tǒng)配置:機(jī)械泵、分子泵

　　極限壓力 (Pa):電弧熔煉室≤6.67x10-4Pa

　　電弧熔煉電流:長(zhǎng)期工作電流200-600A

　　熔煉坩堝 　　有五個(gè)工位 (半球窩SR25) ，

　　四個(gè)熔煉合金工位

　　一個(gè)熔煉除氣工位。

　　一個(gè)吸鑄工位，帶模具體，可根據(jù)老師要求定制 一個(gè)電磁攪拌工位

　　熔煉樣品重量 (以鐵標(biāo)定) 30克。

　　電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧。

　　價(jià)格：

　　19.85萬(wàn)元，含稅及運(yùn)費(fèi)。