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一、產(chǎn)品特色

該款設(shè)備是全自動Plasma增強(qiáng)PECVD系統(tǒng)，連續(xù)可控溫度以及Plasma強(qiáng)度等，配備真空系統(tǒng)，可以低壓條件下進(jìn)行實驗，PECVD系統(tǒng)能使整個實驗腔體都處于輝光產(chǎn)生區(qū)，輝光相對均勻等效，有效的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài)，該設(shè)備爐管可360°旋轉(zhuǎn)，有助于粉料的燒結(jié)更均勻。

二、設(shè)備組成

1）加熱系統(tǒng)2）Plasma系統(tǒng)3）爐管轉(zhuǎn)動系統(tǒng)4）觸屏操作系統(tǒng)5）進(jìn)出氣法蘭組件6）爐管 7）真空系統(tǒng)。

（1）加熱系統(tǒng)：

該加熱系統(tǒng)的加熱腔體采用氧化鋁纖維制品，其極低的熱導(dǎo)率和比熱容，保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱，該系統(tǒng)設(shè)置有超溫、欠溫、斷偶報警保護(hù)功能，大大降低了對操作人員經(jīng)驗的要求。溫區(qū)為單溫區(qū)，溫區(qū)長440mm，異形石英管規(guī)格采用Φ60*Φ100*1200。

（2）Plasma系統(tǒng)：

本系統(tǒng)借助于輝光放電產(chǎn)生等離子體，輝光放電等離子體中，電子密度高，通過反應(yīng)氣態(tài)放電，有效利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征，從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式。

（3）爐管轉(zhuǎn)動系統(tǒng)：

爐管轉(zhuǎn)動系統(tǒng)可以讓爐管360°勻速轉(zhuǎn)動，轉(zhuǎn)速在0.25-25r/min連續(xù)可調(diào)。

（4）觸屏操作系統(tǒng)：該系統(tǒng)可以讓設(shè)備在自動模式下高度自動化運行，所有參數(shù)程序設(shè)定好后自動運行：可實現(xiàn)按照設(shè)定程序連續(xù)工作，可設(shè)置多工作段不同參數(shù)，并可進(jìn)行某工作段循環(huán)工作及某程序循環(huán)工作。

（5） 進(jìn)出氣法蘭組件：設(shè)備法蘭左端為進(jìn)氣端，一側(cè)配有球閥控制的進(jìn)氣口，另一側(cè)預(yù)留KF25接口，上部配有壓力表，左側(cè)端面為KF50接口。右端為出氣端，一側(cè)由球閥控制的出氣口，另一側(cè)為KF25抽口，上部配有真空計，右側(cè)端面為KF50接口。

（6）爐管：爐管為異形石英管，通過左右兩端磁流體密封法蘭實現(xiàn)真空下的回轉(zhuǎn)，

（7）真空系統(tǒng)：由一個電容真空計和一臺DRV16機(jī)械泵組成，抽口端由KF25手動擋板閥控制，并配有粉塵過濾器。

三、技術(shù)參數(shù)