粉體行業(yè)在線展覽
HCVD-060609-C
100-150萬(wàn)元
頂立科技
HCVD-060609-C
19594
化學(xué)氣相沉積爐(碳化硅)可用于以硅烷為氣源的材料表面抗氧化涂層、基體改性等。
☆ 采用先進(jìn)的控制技術(shù),能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動(dòng)范圍小;
☆ 采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室,密封效果好,抗污染能力強(qiáng);
☆ 采用多通道沉積氣路,流場(chǎng)均勻,無(wú)沉積死角,沉積效果好;
☆ 對(duì)沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點(diǎn)粘性產(chǎn)物能進(jìn)行有效處理;
☆ 采用**設(shè)計(jì)防腐蝕真空機(jī)組,持續(xù)工作時(shí)間長(zhǎng),維修率極低。
☆ 爐門:絲桿升降/液壓升降/手動(dòng)升降;旋轉(zhuǎn)移開/平行移開(大尺寸爐門);手動(dòng)鎖緊/自動(dòng)鎖圈鎖緊
☆ 爐殼:全碳鋼/內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼
☆ 爐膽:軟碳?xì)?軟石墨氈/硬質(zhì)復(fù)合氈/CFC
☆ 加熱器、馬弗:等靜壓石墨/模壓三高石墨/細(xì)顆粒石墨
☆ 工藝氣路系統(tǒng):體積/質(zhì)量流量計(jì)
☆ 熱電偶:K分度號(hào)/N分度號(hào)/C分度號(hào)/S分度號(hào)