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臥式化學(xué)氣相爐

SiC、BN

直接聯(lián)系

湖南頂立科技股份有限公司

湖南

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

100-150萬元

品牌:

頂立科技

型號(hào):

SiC、BN

關(guān)注度:

5493

范圍(量程或細(xì)度):

--

應(yīng)用行業(yè):

炭炭復(fù)合材料SiC涂層、石墨制品SiC涂層、纖維SiC、BN、ZrC涂層等

產(chǎn)品介紹

  

臥式化學(xué)氣相沉積爐(SiC、BN)

  • 產(chǎn)品描述:

  • 臥式化學(xué)氣相沉積爐(SiC、BN)可用于材料的表面涂層、基體改性、復(fù)合材料制備等

  • 應(yīng)用范圍:

  • 外延片基座、晶體爐高溫耐材、熱彎模具、半導(dǎo)體坩堝、陶瓷基復(fù)合材料等


技術(shù)特征

采用先進(jìn)的控制技術(shù),能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內(nèi)沉積氣流穩(wěn)定,壓力波動(dòng)范圍??;

全密閉沉積室,密封效果好,抗污染能力強(qiáng);

多通道工藝氣路,流場(chǎng)均勻,無沉積死角,沉積效果好;

多級(jí)高效尾氣處理系統(tǒng),能有效處理高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點(diǎn)粘性產(chǎn)物,環(huán)境友好;

可選配新設(shè)計(jì)的防腐蝕真空機(jī)組,持續(xù)工作時(shí)間長,維修率極低;

使用工藝氣氛:真空/CH4/H2/N2/Ar/BCI3/NH3/MTS。


產(chǎn)品規(guī)格

參數(shù)\型號(hào)HCVD-060609-SICHCVD-101015-SICVCVD-121220-SICHCVD-151530-SICHCVD-252035-SIC
工作區(qū)尺寸W×H×L(mm)600×600×9001000×1000×15001200×1200×20001500×1500×30002500×2000×3500
**溫度(℃)15001500150015001500
溫度均勻性(℃)±7.5±7.5±10±10±10
極限真空度(Pa)1-1001-1001-1001-1001-100
壓升率(Pa/h)0.670.670.670.670.67
加熱方式電阻電阻電阻電阻電阻

以上參數(shù)可根據(jù)工藝要求進(jìn)行調(diào)整,不作為驗(yàn)收依據(jù),具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準(zhǔn)。


配置選擇

結(jié)構(gòu)形式:臥式-單開門/雙開門;立式-上出料/下出料

爐門鎖緊方式:手動(dòng)/自動(dòng)

爐殼材質(zhì):內(nèi)層不銹鋼/全不銹鋼

保溫材質(zhì):碳?xì)?石墨氈/碳纖維固化氈/陶瓷纖維氈

加熱器、馬弗材質(zhì):石墨/CFC/金屬

熱電偶:K/N/C/S分度號(hào)

真空泵:機(jī)械泵組/耐腐蝕泵組



產(chǎn)品咨詢

臥式化學(xué)氣相爐

SiC、BN

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臥式化學(xué)氣相爐 - 5493
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