粉體行業(yè)在線展覽
HVCVD
面議
HVCVD
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本設(shè)備主要用于碳素制品的化學(xué)氣相沉積增密處理,或以碳?xì)錃怏w為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理及碳?xì)种破氛婵仗蓟錈崽幚怼?/p>
設(shè)備用途
本設(shè)備主要用于碳素制品的化學(xué)氣相沉積增密處理,或以碳?xì)錃怏w為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理及碳?xì)种破氛婵仗蓟錈崽幚怼?/p>
設(shè)備特點(diǎn)
1. 雙層SUS304爐體結(jié)構(gòu),中間通以冷卻水,有效降低爐體表面溫度,減少高溫傷害,降低對環(huán)境的影響;
2. 采用先進(jìn)的保溫材料及隔熱結(jié)構(gòu),導(dǎo)熱系數(shù)低,保溫效果好,即使在很高的溫度下也能有效隔絕熱量,節(jié)約能耗;
3. 能夠準(zhǔn)確控制氣體流量和壓力,通過特殊的導(dǎo)氣結(jié)構(gòu)和裝置,大大提高產(chǎn)品的合格率,降低沉積時間;
4. 通過特殊的過濾裝置,使其熱解過程的碳粉幾乎完全過濾,不進(jìn)入真空機(jī)組,大大延長了真空機(jī)組的使用壽命;
5. 人性化配置,既可以手動操作,也可以實現(xiàn)一鍵智能操作;
6. 型式多樣化,立式上開門、立式底升式、臥式側(cè)開門,任意選擇;
7. 本產(chǎn)品接受非標(biāo)定制。
設(shè)備參數(shù)
型號 | 工作區(qū)尺寸 | **溫度 | 溫度均勻性 | 冷態(tài)極限真空度 | 壓升率 | 加熱功率 |
HVCVD-2030 | Φ200×300 | 1500 | ±5 | 50 | 3 | 25 |
HVCVD-2540 | Φ250×400 | 1500 | ±5 | 50 | 3 | 40 |
HVCVD-3050 | Φ300×500 | 1500 | ±5 | 50 | 3 | 55 |
注:以上技術(shù)參數(shù)可根據(jù)工藝進(jìn)行調(diào)整,不作為驗收依據(jù),具體以技術(shù)方案和協(xié)議為準(zhǔn)。 |
略
HTBL
DNN430C/630C/460C/660C
燒結(jié)爐
BAF1200真空氣氛爐
迷你型電弧爐 MAM-1型/MAM-1型手套箱型
VHP-H 真空熱壓爐(臥式)
AMB真空釬焊爐
HVSF
DGBZ型
無
略