粉體行業(yè)在線展覽
真空退火爐—VF-200
面議
致真精密
真空退火爐—VF-200
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真空退火爐是改善薄膜質(zhì)量的有效手段,在特殊氣體氛圍下加熱還可以改善薄膜的組分。VF-200是致真設(shè)備公司推出的一款標(biāo)準(zhǔn)型退火爐,可與公司其他工藝腔體互聯(lián)實現(xiàn)薄膜的原位退火,也可以單獨使用。還可以選配磁鐵模塊實現(xiàn)對磁性薄膜的誘導(dǎo),系統(tǒng)搭配控制軟件,運行穩(wěn)定可靠!
性能參數(shù)
晶圓尺寸 | 1inch-8inch |
極限真空 | 5×10-8mbar |
溫控 | RT-1200℃,精度±1℃ |
加熱方式 | SIC輻射加熱 |
氣體氛圍 | 可在O2等環(huán)境下加熱 |
互聯(lián) | 可與工藝腔體互聯(lián)實現(xiàn)自動傳輸 |
真空系統(tǒng) | 機械泵+分子泵 |
可選 | 磁鐵模塊、進樣室、氣氛退火等 |
觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺
蒸發(fā)源
圓形互聯(lián)設(shè)備(外置機械臂、內(nèi)置機械臂)
兩個鍍膜系統(tǒng)直接互聯(lián)設(shè)備
超高真空管道傳輸設(shè)備
晶圓真空傳輸平臺—VTM
量產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備—MSI-200
生產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備—MSI-100-UHV
生產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備—MSI-100-HV
量產(chǎn)級多功能薄膜沉積設(shè)備
分子束外延設(shè)備—MBE-400