粉體行業(yè)在線展覽
NRA 17/06 - NRA 1000/11
面議
Nabertherm
NRA 17/06 - NRA 1000/11
6435
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用于優(yōu)化溫度均勻性
NRA 150/09 帶全自動供氣裝置和工藝控制裝置H3700 | NRA 25/06 帶有供氣工序包 |
NRA 17/06 - NRA 1000/11
氣密罐式爐根據溫度的不同配有直接或間接加熱裝置。這類爐型適于各種需要預定的保護或反應氣體環(huán)境的熱處理工藝。即便是對于 600 ℃ 以下的真空熱處理,這種緊湊型的爐型同樣適合。爐腔由一個氣密罐構成,氣密罐在門范圍內配有一個水冷卻裝置,用于保護專用的密封裝置。配有相應安全裝置的罐式爐同樣適于氫氣這種反應氣體環(huán)境下的應用,或配以 IDB 工序包用于惰性排膠或熱解工藝。
根據工藝要求的溫度范圍的不同,采用不同的爐型:
安裝在氣密罐內部的加熱元件
有效空間內的溫度均勻性可達 +/- 5
由 1.4571 材質制成的氣密罐
在氣密罐后部區(qū)域設有循環(huán)鼓風機,用于優(yōu)化溫度均勻性
在氣密罐外部及周邊分布的加熱元件
有效空間內的溫度均勻性可達 +/- 5
由 1.4841 材質制成的氣密罐
在氣密罐后部區(qū)域設有循環(huán)鼓風機,用于優(yōu)化溫度均勻性
在氣密罐外部及周邊分布的加熱元件
有效空間內的溫度均勻性可達 +/- 5
由 1.4841 材質制成的氣密罐