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技術(shù)參數(shù)：

ARL Quant’X 熒光能譜儀

應(yīng)對(duì)RoHS指令 ――快速分析

超大Si(Li) 晶體，具有極高的痕量分析的靈敏度，打破lng的檢測(cè)限壁壘

全數(shù)字脈沖處理器技術(shù)，死時(shí)間達(dá)60%， 以及優(yōu)異的峰背比

高級(jí)FP無(wú)標(biāo)樣分析軟件，進(jìn)行無(wú)標(biāo)樣分析，減少對(duì)標(biāo)樣的依賴性

高靈敏電制冷Si(Li) 探測(cè)器技術(shù)， 儀器免維護(hù)和零費(fèi)用運(yùn)行

超大樣品室，可容納300mm*(乘號(hào))400mm的樣品

全自動(dòng)校準(zhǔn)，自動(dòng)監(jiān)測(cè)，自動(dòng)報(bào)警系統(tǒng)，完全計(jì)算機(jī)控制

鍍層和薄膜測(cè)量技術(shù)， 具有無(wú)標(biāo)樣分析測(cè)厚技術(shù)

主要特點(diǎn)：

ARL Quant’X 熒光能譜儀

具有廣泛的應(yīng)用如:ROHS-WEEE電子廢棄物中重元素分析，各種合金及貴金屬成分分析，環(huán)境污染氣溶膠的測(cè)度， 考古文物保護(hù)，刑偵痕量分析，營(yíng)養(yǎng)品分析，磁性介質(zhì)和半導(dǎo)體的薄膜渡層厚度分析，各種油品中成分分析，納米至微米鍍層厚度測(cè)量，土壤，催化劑，礦石，原材料等.

用于材料的無(wú)損分析可選擇液氮致冷或電致冷Si(Li) 探測(cè)器 從氟至鈾的多元素分析測(cè)定的濃度范圍一般可以從ppm級(jí)至100% 技術(shù)參數(shù)