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產(chǎn)品描述

全自動程序控制，彩色觸摸屏界面，操作簡潔，可鍍金（Au)、鉑(Pt)等不氧化貴金屬，也可鍍銥(Ir)、鉻(Cr)、鋁(Al等多種精細(xì)顆粒的易氧化膜材。

應(yīng)用范圍

特別適合場發(fā)射電鏡、透射電鏡制樣及制作無定形碳覆形膜/TEM柵網(wǎng)支持膜，也可為薄膜應(yīng)用等材料領(lǐng)域提供理想的鍍膜平臺。

產(chǎn)品型號

Q150T S（高分辨率磁控離子濺射鍍膜儀，可選輝光放電附件）、Q150T E（高真空熱蒸發(fā)鍍膜儀，用于蒸碳和可選蒸鍍金屬）和Q150T ES（集成了離子濺射和蒸鍍兩種沉積功能的鍍膜儀）。

名稱

規(guī)格

工作腔室

150mm內(nèi)徑 x 127mm高

用戶界面

觸摸屏全圖像用戶界面

樣品臺

標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺

真空系統(tǒng)

渦輪分子泵：帶有空氣冷卻的渦輪分子泵；旋轉(zhuǎn)機械泵：雙級旋轉(zhuǎn)機械泵

濺射電流

0-150mA；可預(yù)設(shè)膜厚（需FTM選項）或使用內(nèi)置定時器

濺射時間

*長60分鐘

碳蒸發(fā)

穩(wěn)定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發(fā)，確保源自碳棒或碳絲的可重復(fù)蒸碳。

尺寸和重量

儀器機箱：585mm寬x 470mm長 x 410mm高 (總高: 650mm) 重量：33.4Kg