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面議
397
VibroMet® 2振動拋光機(jī)可快速去除樣品表面機(jī)械化制樣后殘留的細(xì)微變形層,從而得到無應(yīng)力的制備表面,而不必使用電解拋光制備所必需的危險電解液。結(jié)合VibroMet 2與MasterMet 2二氧化硅拋光液對樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光,可適用于背散射電子衍射(EBSD)或原子力顯微鏡分析(AFM)。不
同于傳統(tǒng)的振動拋光機(jī),VibroMet 2可以產(chǎn)生幾乎完全水平方向的振動,**限度地提高了樣品接觸拋光布的時間。用戶設(shè)定好程序后就可以離開,樣品會在拋光盤中自動地開始振動拋光。
快速去除樣品表面變形層
·水平運(yùn)動溫和地拋光樣品不引起機(jī)械應(yīng)力
·所得樣品表面適用于背散射電子衍射(EBSD)或原子力顯微鏡分析(AFM)
·對混合材料和不均勻樣品都能達(dá)到**的制備效果
無需使用危險電解液
·替換電解拋光儀和危險電解液
·結(jié)合VibroMet 2 與MasterMet二氧化硅拋光液,MicroCloth 拋光布對樣品進(jìn)行化學(xué)-機(jī)械拋光
設(shè)定后無需過多留心
·樣品在拋光盤中可自動開始振動拋光
·12in [305 mm]直徑拋光盤可同時制備多達(dá)18個樣品
FORJ
德國MicroTec—CUT4055
Spex 3636 X-Press? 實(shí)驗(yàn)室用自動壓片機(jī)
PD-10電鏡粉末制樣儀
全自動切片機(jī)
YPZ-GZ110L
SPEED wave
ZYP-X60T
XHLQM-30