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FR-Scanner 掃描型光學(xué)膜厚儀主要由以下系統(tǒng)組成：

A)光學(xué)光源裝置

小型低功率混合式光源

本系統(tǒng)混合了白熾燈和LED燈，*終形成光譜范圍360nm- 1100nm；該光源系統(tǒng)通過微處理控制，光源平均壽命逾10000小時；

集成小型光譜儀，光譜范圍360-1020nm，分辨精度 3648像素CCD 和 16位 A/D 分辨精度.

集成式反射探針，6組透射光探針（200um），1組反射光探針，探針嵌入光源頭，可修整位置，確保探針無彎曲操作；

光源功率:3W;

B)超快掃描系統(tǒng)，平面坐標內(nèi)，可進行625次測量/分鐘 (8’’ wafer) 或500次測量/分鐘(300mm wafer). 全速掃描時，掃描儀的功率消耗不超過200W；

樣品處理臺：樣品處理尺寸可達300mm. 可滿足所有半導(dǎo)體工藝要求的晶圓尺寸。手動調(diào)節(jié)測量高度可達25mm；配有USB通訊接口，功率：100 - 230V 115W.

C) FR-Monitor膜厚測試軟件系統(tǒng)，

可精確計算如下參數(shù)：

1）單一或堆積膜層的厚度；

2）靜態(tài)或動態(tài)模式下，單一膜層的折射率；本軟件包含了類型豐富的材料折射率數(shù)據(jù)庫，可以有效地協(xié)助用戶進行線下或者在線測試分析。本系統(tǒng)可支持吸收率，透射率和反射率的測量，還提供任何堆積膜層的理論性反射光譜，一次使用授權(quán)，即可安裝在任何其他電腦上作膜厚測試后的結(jié)果分析使用。

D) 參考樣片:

a) 經(jīng)校準過的反射標準硅片；

b) 經(jīng)校準過的帶有SiO2/Si 特征區(qū)域的樣片；

E) 附件