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美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)8006

直接聯(lián)系

邁可諾技術(shù)有限公司

美國

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報價:

面議

關(guān)注度:

720

產(chǎn)品介紹

品牌:恩科優(yōu)(N&Q

型號:NXQ800-6

產(chǎn)地:美國

恩科優(yōu)光刻機(jī)分為半自動和全自動兩大系列。其中,N&Q8000系列光刻機(jī)是以自動系統(tǒng)為主。該系統(tǒng)優(yōu)越的操作性,超高的分辨率,均勻的光學(xué)系統(tǒng),現(xiàn)代先進(jìn)的接近式和接觸式光刻及超高的性價比,使恩科優(yōu)光刻系統(tǒng)已經(jīng)被全國各地眾多**企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校采用,并成為他們光刻系統(tǒng)的**;

二、技術(shù)參數(shù):

1、芯片尺寸:5mm~150mm的圓片/方片和不規(guī)則碎片(支持對不規(guī)則碎片的特殊卡盤設(shè)計);

2、曝光波長:350nm-450nm(其它波長可選配);

3、汞燈功率:350W/500W(其它功率可選配);

4、分辨率:優(yōu)于0.5um;

5、曝光模式:支持接近式曝光,各種接觸式(真空接觸、軟接觸、硬接觸等)曝光;

6、出射光強(qiáng)范圍:10mW/cm2~55mW/cm2@405nm

7、支持恒定光強(qiáng)或恒定功率模式;

8、曝光時間:0.1~999.9s;

9、對準(zhǔn)精度:雙高清彩色CCD + 雙高清彩色監(jiān)視器,對準(zhǔn)精度可達(dá)到0.4微米內(nèi);

10、掩膜尺寸:2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉(zhuǎn)換器);

11、光強(qiáng)均勻性Uniformity

<±1% over 2區(qū)域;

<±2% over 4區(qū)域;

<±3% over 6區(qū)域;

12、雙面光刻:具備背面紅外對準(zhǔn)(IR BSA)和光學(xué)背面對準(zhǔn)(OBS BSA),雙面對準(zhǔn)精度≤2μm

13、電源:高靈敏度光強(qiáng)可控電源。

可選型號:

NXQ400-6

NXQ400-8

NXQ800-6

NXQ8006 Sapphire

NXQ800-8

三、產(chǎn)品特點(diǎn):

可選支持單面對準(zhǔn)和雙面對準(zhǔn)設(shè)計;

高清晰彩色雙CCD鏡頭采用***的分裂視場顯微鏡鏡頭(基于無限遠(yuǎn)修正的CCD鏡頭設(shè)計);雙頭高清全彩物鏡(單視場或分裂視場可供用戶靈活選擇);

高清彩色雙顯示屏;

全新氣動軸承導(dǎo)軌設(shè)計,高精準(zhǔn),低磨損,無需售后維護(hù)的;

具有自動執(zhí)行楔形誤差補(bǔ)償,并在找平后自動定位功能;

操作簡易,具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面;

操控手柄調(diào)控模式的獨(dú)特設(shè)計;

采用LED穿透物鏡照明技術(shù),具有超強(qiáng)對準(zhǔn)亮度;

采用基于無限遠(yuǎn)修正的顯微鏡鏡頭架構(gòu);

抗衍射反射的高效光學(xué)光路設(shè)計;

帶安全保護(hù)功能的溫度和氣流傳感器;

全景準(zhǔn)直透鏡光線偏差半角: <1.84度;

設(shè)備穩(wěn)定性,耐用性超高;

產(chǎn)品相關(guān)關(guān)鍵字: 恩科優(yōu)光刻機(jī) 紫外曝光機(jī) 掩膜曝光機(jī) 掩膜對準(zhǔn)曝光系統(tǒng) 全自動光刻機(jī)

產(chǎn)品咨詢

美國恩科優(yōu)N&Q系列光刻機(jī)8006

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