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SPS 光刻機 POLOS μ

主要特征：

1、寫入分辨率低至2 μm

2、可調(diào)整的寫作領(lǐng)域和具有可互換目標(biāo)的解決方案

3、與CAD文件或位圖圖像兼容

4、與g線光刻膠兼容

5、兼容多種基材（硅，玻璃，金屬，塑料等）

6、兼容任何樣品尺寸達4英寸的晶片

7、相機反饋以進行對準(zhǔn)步驟

8、由于沒有硬掩模，節(jié)省了時間和**

9、將設(shè)計直接覆蓋在樣品上的直觀對齊方法

10、占地面積小的桌面

11、非常適合微電子，2D材料，微流體，光電，opty或任何其他2D微加工應(yīng)用的技術(shù)

規(guī)格參數(shù)：

1、光源曝光：435 nm； 對準(zhǔn)：525 nm

2、*小特征尺寸：2至23 μm可調(diào)

3、對準(zhǔn)分辨率：低至1 μm / cm2

4、**曝光面積：75 x75 mm2

5、基板尺寸：**4”晶圓

6、系統(tǒng)尺寸：W：（36厘米）； D：（36厘米）; 高：（60厘米）

7、多合一PC：Win 10、24英寸全高清

8、SFTprint軟件：機器控制，步進重復(fù)，自動劑量測試，縫合，對齊

9、SFTconverter：將標(biāo)準(zhǔn)格式（gdsii，dxf，cif，oas）轉(zhuǎn)換為位圖圖像。 隨附的CAD軟件