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儀器簡介：

PLD是將脈沖激光透過合成石英窗導入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上，靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)，然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成新材料。

我們PLD系統(tǒng)擁有**的性能價比，具有以下優(yōu)異的性能:

1. 主真空室腔體直徑18英寸，本底真空可達高真空：9X10E-9 Torr（要用Load-lock）。

2. 主真空室抽氣系統(tǒng)前級泵采用無油干泵

3. ★基片加熱溫度**可達1000℃。

4. 基片臺可360度旋轉(zhuǎn)（轉(zhuǎn)速1-20rpm可調(diào)）。

5. ★基片與靶之間方位采用靶在下方，基片在上方，均水平放置?；c靶間距沿Z軸（即垂直地面方向）可調(diào)。

6. 8個裝1英寸靶的坩堝（或靶盤），各坩堝之間要求相互隔離，不互相污染。

7. ★激光器：Coherent 公司COMPexPro 201：Wavelength: 248 nm (KrF)；Pulse Energy：700mJ；Max. Rep. Rate ：10 Hz；Energy stability (one sigma) : 1%； Average Power: 5W；Pulse Duration: 25 ns；Beam Dimensions(V×H): 24×10 mm；Beam Divergence(V×H): 3×1 mrad.

8. ★ Dual Load Lock System， 兩次裝樣-送樣系統(tǒng)，高效保證傳片精準

9. 設備及光學臺可聯(lián)接在一起，始終保持腔體和激光束位置穩(wěn)定。支撐腿帶可調(diào)節(jié)的轉(zhuǎn)輪，方便在地面整體（包括腔體系統(tǒng)和激光器）同時移動與固定。

感謝上海交通大學使用此研究級高性能的PLD系統(tǒng)（購買5套）， 望我們高性能價格比的PLD為廣大科研人員提供幫助！！

具體配置:

一， 超高真空腔體

二， 分子泵

三， 激光掃描系統(tǒng)

四， 襯底加熱鉑金片，**可達1200度

五，基板加熱構(gòu)造設計

六， 基板加熱電源

七， Rheed

八， Rheed軟件

九， 多靶位 ，標準配置6個1英寸靶

十，Load-Lock樣品傳輸腔體

技術(shù)參數(shù)：

一， 靶。

數(shù)量6個，大小1-2英寸，被激光照射時可自動旋轉(zhuǎn)，靶的選擇可通過步進電機控制。

二， 基板。

采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時基板可旋轉(zhuǎn)，工作環(huán)境**壓力是300mtorr。

三， 基板加熱電源。

四， 超高真空成膜室腔體。

不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-7 pa。

五， 樣品傳輸室。

不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa。

六， 排氣系統(tǒng)。

分子泵和干式機械泵，進口知名品牌。

七， 閥門。

采用超高真空擋板閥。

八， 真空檢測。

真空計采用進口產(chǎn)品

九， 氣路兩套。

采用氣體流量計（MFC）。

十， 薄膜成長監(jiān)控系統(tǒng)。

采用掃描型Rheed（可差分抽氣）。

十一， 監(jiān)控軟件系統(tǒng)。

基板溫度的監(jiān)控和設定，基板和靶的旋轉(zhuǎn)，靶的更換。

十二， 各種電流導入及測溫端子。

十三， 其它各種構(gòu)造

各種超高真空位移臺，磁力傳輸桿，超高真空法蘭，超高真空密封墊圈，超高真空用波紋管等。

另外我公司注重發(fā)展和銷售大面積的PLD 系統(tǒng)和電子束蒸發(fā)器和濺射沉積。目前，公司提供以下物理氣相沉積系統(tǒng)和元件產(chǎn)品：

? 大面積脈沖激光沉積系統(tǒng)

? 脈沖激光沉積元件包括靶材操縱器和智能窗

? 電子束蒸發(fā)系統(tǒng)

? 磁控和/或離子束濺射系統(tǒng)

? 組合沉積系統(tǒng)

? 定制的基底加熱器

產(chǎn)品具有如下基本特點：

1. 系統(tǒng)可根據(jù)客戶的特殊要求設計，操作簡單方便?？墒褂么蟪叽绨胁纳L大面積薄膜，基底的尺寸直徑可從50mm 到200mm

2. 電拋光腔體，主腔呈方形，其前部是鉸鏈門，方便更換基底和靶材

3. 雙軸磁性耦合旋轉(zhuǎn)靶材操縱器，可手動或計算機控制選定靶材。磁力桿傳送基底到基底旋轉(zhuǎn)器上，可手動或電動降低旋轉(zhuǎn)器，實現(xiàn)簡單快速地更換

4. 主腔室預留備用的腔口，如用于觀察靶材和基底，安裝原子吸收或發(fā)射光譜儀、原位橢偏儀、離子槍或磁控濺射源、殘留氣體分析器和離子探針或其他的元件等等

5. 系統(tǒng)使用程序化的成像鏈(Optical Train) ，包括聚焦透鏡、反射鏡臺、動力反射鏡支撐架和智能視窗等，無需頻繁地校準光學組件。在激光通過大直徑靶材時可使其光柵掃描化（rastering），以獲得均勻性的薄膜。智能視窗不僅可精確監(jiān)視沉積過程中的靶材激光注入量（OTLF），而且可長時間保持激光束光路的清潔

6. 系統(tǒng)使用特有的黑體基底加熱設計，高溫下（950°C）可與銀膠兼容使用

根據(jù)PLD 客戶的不同需求，提供以下型號：

1．NANO PLD

2．PLD 3000

3．PLD 5000

4．PLD 8000

5．PLD T100

其中NANO PLD 系統(tǒng)簡單、緊湊，具有多種功能，非常適合小型的研發(fā)實驗室，大面積 PLD 系統(tǒng)包括PLD 3000，PLD5000，PLD8000 非常適合于大的公共機構(gòu)，政府實驗室和國防機構(gòu)的研發(fā)和試制生產(chǎn)。PLD T100 系統(tǒng)也就是高溫超導帶涂層系統(tǒng)非常適合于生產(chǎn)高溫超導帶和線纜，目前已有兩套系統(tǒng)賣到日本知名的國際超導產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究中心超導工學研究所（SRL-ISTEC），而且在高溫超導線纜中獲得了記錄電流密度，創(chuàng)高溫超導線材創(chuàng)新記錄。

大面積PLD 的每個系統(tǒng)的具體一些參數(shù)如下：

這些型號的設備適用于以下的客戶群：

1) 高溫超導研發(fā)-----合成新的高溫超導材料或者微調(diào)高溫超導材料

2) 高溫超導工業(yè)研發(fā)-----高溫超導線纜和帶沉積，移動通信的微波過濾器，電力分配網(wǎng)的錯誤電流限制器，超導磁能存儲器(SMES)，超導量子干涉磁量儀元素制作，超導電子配件，磁共振成像應用，磁懸浮如火車

3) 鐵電材料和設備-----使用大面積的PLD 研發(fā)

4) 電-光和光學材料-----電鍍鉻材料，電-光材料如PLZT， BST 等

5) 電介材料---如AlN 薄膜

6) 硬質(zhì)薄膜----如TiCxN(1-x) 薄膜

7) 透明導電氧化物 (TCO) 沉積

8) 測輻射熱敏元素生產(chǎn)商----用于熱跟蹤的熱探測，熱成像，熱度量衡等

9) 制備新材料特別是功能陶瓷

10) 制備納米粒子

11) 基質(zhì)輔助脈沖激光蒸發(fā)(MAPLE)聚合物薄膜

12) 制備用于MRAMs 和錄音磁頭上GMR 的鐵磁材料等