粉體行業(yè)在線展覽
面議
914
技術參數(shù):我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶槍
安裝法蘭口徑:NW63CF,NW100CF
真空腔體內長度范圍:150-400mm
真空腔體內端面直徑:60-96
靶材直徑: 1", 2" and 3"
靶材**厚度:4-6mm
冷卻:水冷
特點:
100%超高真空(UHV)應用
獨有的放射性沉積模式
在線Z軸驅動及傾斜
水冷時不會存在水汽
平衡靶和非平衡靶設計
高強度磁體應用于磁性材料
應用領域:
PVD沉積
金屬涂層
納米結構薄膜
多層鍍層
反應濺射
射頻濺射,直流濺射,脈沖直流濺射
硬質涂層
XRD-晶向定位
CVD 真空化學氣相沉積設備
等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)CVD
自動劃片機
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
定制-電漿輔助化學氣相沉積系統(tǒng)-詳情15345079037
等離子化學氣相沉積系統(tǒng)-PECVD
HSE系列等離子刻蝕機