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磁控濺射源/靶槍(1英寸/2英寸/3英寸)

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科睿設備有限公司

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面議

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914

產品介紹

技術參數(shù):我們提供多種口徑的圓形平面靶槍,尺寸1", 2" and 3". 以及矩形靶槍

安裝法蘭口徑:NW63CF,NW100CF

真空腔體內長度范圍:150-400mm

真空腔體內端面直徑:60-96

靶材直徑: 1", 2" and 3"

靶材**厚度:4-6mm

冷卻:水冷

特點:

100%超高真空(UHV)應用

獨有的放射性沉積模式

在線Z軸驅動及傾斜

水冷時不會存在水汽

平衡靶和非平衡靶設計

高強度磁體應用于磁性材料

應用領域:

PVD沉積

金屬涂層

納米結構薄膜

多層鍍層

反應濺射

射頻濺射,直流濺射,脈沖直流濺射

硬質涂層

產品咨詢

磁控濺射源/靶槍(1英寸/2英寸/3英寸)

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