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一、概述

  YYC系列氧氣純化裝置采用特制催化劑，以工業(yè)氧氣為原料氣，通過催化氧化工序脫除H2、CO和烴類；經(jīng)冷卻系統(tǒng)、氣水分離器、吸附干燥脫除H2O、CO2，兩塔交替工作、再生。本工藝不能脫除氧氣中的氮、氬等惰性氣體雜質。

   化學方程式：O2（AO2）+H2、CO、CH4→(AO)+H2O+CO2

二、技術參數(shù)：

  1、處理氣量：     1~2000 Nm3/h(可根據(jù)用戶需要訂做非標設備)

  2、原料氣要求：   工業(yè)氧

  3、工作壓力0.2-3MPa可調

  4、(氧氣純化裝置)凈化效能：純化后符合并高于GB/T14599-2008的99.9996%要求 

氣體  純度(%) H2(ppm) N(ppm) CO2(ppm) CH4(ppm) 露點 (H2O)

高純氧  99.9996 ≤0.5 不檢測 ≤0.5 ≤0.5 ≤1.5

三、設備特點：

   1、凈化器采用特殊結構和裝料方法，流速設計合理，氣流分布均勻；本凈化機的催化劑活性高，吸附劑容量大，故使用成本更低。

   2、全BA級內(nèi)外精拉管管路。采用進口卡套式球閥。杜絕了氣體流經(jīng)管路的再次污染。

   3、雙式結構,開機后一組工作，另一組再生、備用,而且RZ-YYC系列半自動純化裝置工作和再生都自動進行,故能夠連續(xù)供氣,一臺能頂單式的兩臺使用。亦可根據(jù)客戶需要，定做全自動操作方式；

   4、抗波動能力強：對原料氧氣要求不高，允許雜質含量高達1000ppm，因此，用戶選用廉價的工業(yè)氧氣作氣源也能達到要求；

   5、可根據(jù)客戶的原料氣指標和產(chǎn)品氣要求，采用不同工藝來滿足客戶需要。

四、應用領域：

    該系列氧氣純化裝置適用于需要大量高純氧氣的半導體、光纖、晶體管，顯像管等主要生產(chǎn)部門。