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AW-QP系列單片式等離子去膠機(jī)
面議
奧威贏
AW-QP系列單片式等離子去膠機(jī)
195
設(shè)備用途
高性能的單片去膠(打膠),主要應(yīng)用于 4、6、8 英寸直徑的半導(dǎo)體單片去膠、等離子表面清洗、掃底膜工藝等。
主要應(yīng)用領(lǐng)域包括:芯片制造、MEMS、太陽能電池、化合物產(chǎn)業(yè)(GaAs、GaN、GaP、InP、SiC 等)、光電產(chǎn)業(yè)等,主要應(yīng)用工藝包括:去膠、可控光刻膠去除(刻蝕前掃底膜)、GaAs、InP 晶片去膠及掃底膜等。
產(chǎn)品型號(hào) | AW-QP600 |
外形尺寸(不含報(bào)警燈塔) | L1200×W1500×H1750(mm) |
反應(yīng)倉(cāng)材質(zhì) | 石英+6061鋁合金 |
等離子體發(fā)生器 | 頻率13.56MHz,功率0-600W可調(diào),自動(dòng)阻抗匹配 |
去膠圓片尺寸 | 4寸、6寸、8寸 |
去膠速率 | 300-1500A/min |
溫度控制 | 30~160℃、±3 ℃ |
產(chǎn)能及碎片率 | 單腔45~60片/小時(shí),≤1/1000 |
真空系統(tǒng) | 油泵/干泵可選,進(jìn)口氣動(dòng)角閥、充氣閥,高精度真空計(jì) |
氣路系統(tǒng) | MFC質(zhì)量流量計(jì)控制(標(biāo)準(zhǔn)配置2路):5SLMO?和1SLM N |
控制系統(tǒng) | 觸摸式工控機(jī)+PLC控制 |
備注 | 可按客戶需求彈性設(shè)計(jì)/多腔設(shè)計(jì) |
AW-DP系列桌面型等離子清洗機(jī)
AW-P00X系列腔體射頻等離子清洗機(jī)
AW-QP系列單片式等離子去膠機(jī)
AW-MP系列腔體式微波等離子清洗機(jī)
AW-P系列腔體式射頻等離子清洗機(jī)
AW-LP系列連續(xù)式射頻等離子清洗機(jī)
AW-ZMP系列在線式微波等離子清洗機(jī)
AW-ZP系列在線式射頻等離子清洗機(jī)
平行縫焊機(jī)
真空共晶爐
定制5臺(tái)機(jī)連體配套
SEM5000X
防爆觸摸屏/防爆電腦/防爆電腦
氣流篩分儀(原Hosokawa Alpine)
金屬回收系統(tǒng)
熱風(fēng)循環(huán)烘箱CT-C系列
自動(dòng)拆包機(jī)
酒精回收塔
自動(dòng)吸盤振動(dòng)器離心式G08T
干燥機(jī)控制
廢袋收集器
智能控制系統(tǒng)