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高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD400

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中國(guó)科學(xué)院沈陽(yáng)科學(xué)儀器股份有限公司

遼寧

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)

參考報(bào)價(jià)：

面議

品牌：

沈陽(yáng)科學(xué)儀器

型號(hào)：

高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD400

關(guān)注度：

653

產(chǎn)品介紹

真空室結(jié)構(gòu):

方形前開(kāi)門(mén)

真空室尺寸:

φ400x400x400mm

極限真空度:

≤6.6E-5Pa

沉積源:

永磁靶3套，φ2英寸

樣品尺寸，溫度:

φ4英寸，1片，**800℃

占地面積（長(zhǎng)x寬x高）:

約1.8米×1.7米×2米

電控描述:

全自動(dòng)

工藝:

片內(nèi)膜厚均勻性：≤±3%

產(chǎn)品咨詢

高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD400

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