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高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD300

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中國科學(xué)院沈陽科學(xué)儀器股份有限公司

遼寧

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)

參考報(bào)價(jià)：

面議

品牌：

沈陽科學(xué)儀器

型號(hào)：

高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD300

關(guān)注度：

636

產(chǎn)品介紹

占地面積（長x寬x高）:

約1.8米x0.97米x1.9米

電控描述:

全自動(dòng)

工藝:

片內(nèi)膜厚均勻性：≤±5%

產(chǎn)品概述：
系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、抗氧化基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成。

設(shè)備用途：
用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所進(jìn)行薄膜材料的科研。

產(chǎn)品咨詢

高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PLD300

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