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>高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--EB900

高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--EB900

高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--EB900

直接聯(lián)系

中國(guó)科學(xué)院沈陽(yáng)科學(xué)儀器股份有限公司

遼寧

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

面議

品牌:

沈陽(yáng)科學(xué)儀器

型號(hào):

高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--EB900

關(guān)注度:

643

產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品概述:
系統(tǒng)主要由蒸發(fā)室、主抽過(guò)渡管路、旋轉(zhuǎn)基片架、光加熱系統(tǒng)、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監(jiān)控儀、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)等部分組成,體現(xiàn)立方整體外觀,適用于超凈間間壁隔離安裝,操作面板一端處在相對(duì)要求較高超凈環(huán)境,其余部分(含低溫泵抽系統(tǒng))處在相對(duì)要求較低超凈環(huán)境。

設(shè)備用途:
本系統(tǒng)配有一套電子槍及電源,可滿足在Al,Ni,Ag,Pt,Pd,Mo,Cr和Ti等多種金屬和介質(zhì)膜基片上均勻沉積多層膜的需要。

產(chǎn)品咨詢

高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)--EB900

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