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新一代磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備

新一代磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備

直接聯(lián)系

成都中科唯實(shí)儀器有限責(zé)任公司

四川

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報(bào)價(jià):

面議

品牌:

中科唯實(shí)

型號:

新一代磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備

關(guān)注度:

405

產(chǎn)品介紹

主要技術(shù)指標(biāo):

基材厚度:PET:10-125μm;PI:8-75μm

有效鍍膜幅寬:1300mm

6組濺射陰極,其中1組孿生陰極

純金屬濺射靶材利用率≥35%;反應(yīng)濺射靶材利用率≥30%;

真空抽率:卷繞室從大氣狀態(tài)到2×10-2Pa,需要時(shí)間≤35min 

鍍膜室(清潔、空載)極限壓力:≤5×10-4 Pa;

卷繞室壓升率(清潔、空載):≤0.5Pa/hr(深冷冷阱工作)

放、收卷徑:400mm(**);放、收卷芯軸直徑:6 inch(150mm) ;

反饋控制:磁控濺射反饋補(bǔ)氣響應(yīng)時(shí)間≤45μs

鍍膜均勻性,重復(fù)性測試:在1250mm幅寬范圍內(nèi)濺射均勻性≤±3%

反應(yīng)濺射氣體反饋控制系統(tǒng)(可選):實(shí)現(xiàn)對反應(yīng)濺射的精細(xì)控制;

前處理:烘烤解熱和線性離子源

在線光學(xué)反射率傳感系統(tǒng)或歐姆測量傳感系統(tǒng)

張力控制范圍:0-500N ,控制精度:±1%

基膜走速:0.5—10米/分鐘


產(chǎn)品咨詢

新一代磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備

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新一代磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備 - 405
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