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升級版膠體磨,改進(jìn)型膠體磨,創(chuàng)新型膠體磨

CMSD2000

直接聯(lián)系

上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

德國

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報價:

5-10萬元

品牌:

IKN

型號:

CMSD2000

關(guān)注度:

2518

范圍(量程或細(xì)度):

0-2微米

創(chuàng)新點(diǎn):

改良型膠體磨是三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,***小的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到21000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。

應(yīng)用行業(yè):

新材料 食品 化工 醫(yī)藥

典型用戶:

武漢 新鄉(xiāng) 江門 ???/p>

產(chǎn)品介紹

 


升級版膠體磨,改進(jìn)型膠體磨,創(chuàng)新型膠體磨,高速研磨分散機(jī),高剪切研磨分散機(jī),IKN高速研磨分散機(jī),管線式研磨分散機(jī),中試型研磨分散機(jī),德國研磨分散機(jī)

 

 

改良型膠體磨是三級錯齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款立式膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達(dá)到3倍以上,***小的轉(zhuǎn)速可以達(dá)到21000RPM。所以可以達(dá)到更好的分散濕磨效果。

 

獨(dú)特創(chuàng)意,融化理念。將高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機(jī)”、“研磨均質(zhì)機(jī)”、“研磨乳化機(jī)”。

多功能改良型膠體磨,這種獨(dú)特的設(shè)計,放眼世界,獨(dú)上海IKN一家,更多關(guān)于改良型膠體磨的信息,

 

多功能改良型膠體磨,研磨分散機(jī),簡單的來講就是將高剪切膠體磨和高剪切分散機(jī),合二為一了。同時具備膠體磨和分散機(jī)的功能,并且減少了膠體磨和分散機(jī)串連后的,時間差因素。從成本上來講,原先兩臺設(shè)備的價格,現(xiàn)在用一臺研磨分散機(jī)就可以完成,性價比更高。

CMSD2000
系列改良型膠體磨,研磨分散設(shè)備是CIK(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

CMSD2000系列改良型膠體磨,研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。 


**級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。



            
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出***終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

研磨分散機(jī)的特點(diǎn):

1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

 

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

5 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件 PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

 

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%

 




13795214885  賈清清



產(chǎn)品咨詢

升級版膠體磨,改進(jìn)型膠體磨,創(chuàng)新型膠體磨

CMSD2000

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