粉體行業(yè)在線展覽
CMSD2000
10-20萬元
IKN
CMSD2000
2939
0-10微米
IKN研磨分散機設(shè)計獨特,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。
食品工業(yè)、涂料油墨、生物醫(yī)藥、日用化工、農(nóng)藥化肥、石油化工、精細(xì)化工
全國各地
石墨烯包覆硅碳復(fù)合負(fù)極材料設(shè)備,鋰離子電池制備專用設(shè)備研磨分散機,高剪切研磨分散機,德國進口研磨分散機,管線式研磨分散機,高效率研磨分散機
IKN研磨分散機設(shè)計獨特,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。
鋰離子電池以其能量密度大、工作電壓高、自放電率小、體積小、重量輕,循環(huán)壽命長等優(yōu)勢廣泛應(yīng)用于各種便攜式電子設(shè)備和電動汽車中。目前商業(yè)化的鋰離子電池負(fù)極材料主要為石墨類負(fù)極材料,但因其理論比容量僅為(4200mAh/g)和低嵌鋰電位引起人們的廣泛關(guān)注,此外硅還具有儲量豐富,成本低,環(huán)境友好等優(yōu)點,有望成為下一代鋰離子電池負(fù)極材料。然而,硅負(fù)極由于其在鋰的嵌入脫嵌循環(huán)過程中要經(jīng)歷嚴(yán)重的體積膨脹和收縮,造成材料結(jié)構(gòu)的破壞和機械粉碎,從而導(dǎo)致電極循環(huán)性能的衰退,限制其商業(yè)化應(yīng)用。為了解決這些問題,目前主要通過硅顆粒納米化,硅與其它金屬合金化,硅與惰性或活性基質(zhì)復(fù)合三種主要途徑來改善硅基負(fù)極材料循環(huán)性能。其中硅(< 10% ),電子導(dǎo)電性好,且由碳基質(zhì)形成的”還能補償硅顆粒的體積膨脹,維持納米硅的結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性,從而使材料的循環(huán)性能明顯改善。同時,石墨烯作為一種新型碳納米材料,由單層
石墨烯包覆納米硅IKN研磨分散機處理以形成懸浮液,氧化石墨烯納米硅和石墨微粉的質(zhì)量比為500 80(TC熱處理,得到經(jīng)熱還原的石墨烯包覆的納米硅和石墨微粉復(fù)合負(fù)極材料。納米硅和石墨微粉中納米硅的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為Hrnnmer法制備得到。分散劑為聚乙烯醇、聚氧化乙烯、聚丙烯酰胺、聚乙二醇、丙二醇中的至少一種。I 500nm硅粉,所述石墨微粉為170 200°C。所得復(fù)合負(fù)極材料,石墨烯包覆在外層,內(nèi)部為納米硅和石墨微粉,顆粒形狀為類球形。平均粒徑大小可以在I 10 μ m)范圍內(nèi)變化。
本發(fā)明的優(yōu)點在于(2)采用石墨烯將石墨微粉與納米硅包裹,造球過程中不需添加粘結(jié)劑提高活性物質(zhì)含量,進行提高材料可逆比容量。傳統(tǒng)方法將石墨與納米硅造粒復(fù)合時,一般要加入有機粘結(jié)劑如蔗糖、葡萄粘、樹脂等,這些有機物在后續(xù)熱過程中會分解產(chǎn)生氣體并得到熱解碳,使材料密度降低、比表面積增大,增加了材料的不可逆容量、降低**充放電效率。
(4)噴霧造球后再熱處理形成外層為石墨烯,內(nèi)部為納米硅(5)本發(fā)明采用噴霧干燥制備納(見說明書附圖(6)由于噴霧干燥制得的鋰離子電池復(fù)合負(fù)極材料為球形顆粒,所以材料的振實密度得到提高,從而能量密度得到提高。
10倍,是決定復(fù)合材料容量的關(guān)鍵活性物質(zhì)??筛鶕?jù)實際需要,通過設(shè)計硅在復(fù)合材料中的含量來決定復(fù)合材料的容量。因此,本發(fā)明方法簡單易行,實用化程度高,制備的硅碳復(fù)合材料具有可逆容量大、容量可設(shè)計、循環(huán)性能和大電流放電能力好、振實密度高等優(yōu)點。
上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。
CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。
1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)
2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)
3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)
4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)
5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)
線速度的計算:
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
轉(zhuǎn)子的線速率
在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,研磨分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的
研磨分散機的優(yōu)勢:
更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計理念,將先jin的技術(shù)與創(chuàng)xin的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中,為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.
新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供超強切割力
更可靠 采用整體式機械密封,zui大程度上解決了高速運轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題,安裝與更換方便快捷.
新技術(shù) 采用國ji先jin的受控切割技術(shù),將纖維類物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi),滿足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.
CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%