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IKN隔膜分散高速納米膠體磨

CMSD--2000/04

直接聯(lián)系

上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

德國

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報價:

10-20萬元

品牌:

IKN

型號:

CMSD--2000/04

關(guān)注度:

169

范圍(量程或細(xì)度):

納米級

創(chuàng)新點(diǎn):

高速分散

產(chǎn)品介紹

IKN隔膜分散改進(jìn)式高速膠體磨

制作電池隔膜的分散工藝有以下要求:

-  均勻分散 :隔膜材料中的各種組分需要均勻分散,以確保隔膜的性能一致性和穩(wěn)定性。

-  控制孔徑和孔隙率 :隔膜的孔徑和孔隙率對電池性能有重要影響??讖叫枰鶆蚯疫m中,以保證鋰離子的順利通過和防止正負(fù)極短路。

-  保持材料的完整性 :在分散過程中,要避免材料的過度剪切和破壞,以保持隔膜材料的完整性和力學(xué)性能。

-  避免雜質(zhì)引入 :分散工藝需要在潔凈的環(huán)境中進(jìn)行,以防止雜質(zhì)的引入,影響隔膜的性能和電池的安全性。

-  能耗和成本控制 :在保證隔膜性能的同時,還需要考慮分散工藝的能耗和成本,以實現(xiàn)經(jīng)濟(jì)效益。

上海依肯在傳統(tǒng)膠體磨與均質(zhì)機(jī)的基礎(chǔ)上,研發(fā)出了二者相結(jié)合的研磨分散機(jī),其磨頭結(jié)構(gòu)采用錯齒形,自上而下齒槽深度由深到淺,定轉(zhuǎn)子部分間隙理論上能夠?qū)崿F(xiàn)無限接近,再配合15000RPM的超高轉(zhuǎn)速,當(dāng)顆粒進(jìn)入磨頭腔體之后,瞬間即可被超微粉碎。從磨頭腔體出來后進(jìn)入分散盤腔內(nèi),根據(jù)物料的特性及處理量的要求,上海依肯提供2G,4M,6F,8SF不同規(guī)格的斜齒,對磨細(xì)的顆粒進(jìn)行二次剪切和分散,防止顆粒抱團(tuán)。

高速研磨分散機(jī), 線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形,具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向。第二組由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力(可有泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,通過高速研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效的乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

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IKN模塊化設(shè)計的主要特點(diǎn)如下:

-直立式腔體結(jié)構(gòu),物料可以全部進(jìn)入分散腔;

-無死角;

-良好的表面處理;

-符合CIP/SIP的清洗要求;

-低噪音;

-所有接觸物料的材質(zhì)均為SS316

-小試、中試到量產(chǎn),平穩(wěn)過渡;

-僅需簡單的更換功能模塊,即可滿足分散-懸浮-均質(zhì)-乳化的不同要求;

-衛(wèi)生設(shè)計,適合食品及制藥行業(yè);

-可提供特殊材質(zhì)滿足磨損性及腐蝕性產(chǎn)品處理要求。

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產(chǎn)品咨詢

IKN隔膜分散高速納米膠體磨

CMSD--2000/04

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IKN隔膜分散高速納米膠體磨 - 169
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