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納米氧化鋅研磨分散機，納米氧化鋅分散機，納米氧化鋅分散設(shè)備，氧化鋅分散機，超細分散機，納米分散機

納米氧化鋅粒徑介于1-100 nm之間，是一種面向21世紀的新型高功能精細無機產(chǎn)品，表現(xiàn)出許多特殊的性質(zhì)，如非遷移性、熒光性、壓電性、吸收和散射紫外線能力等，利用其在光、電、磁、敏感等方面的奇妙性能，可制造氣體傳感器、熒光體、變阻器、圖像記錄材料、壓電材料、壓敏電阻、高效催化劑、磁性材料和塑料薄膜等。
                   

納米氧化鋅的分散難點：納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當中，容易出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象，導致物料粒徑變大，分散效果不佳，產(chǎn)品改性不充分。

如果使用普通的分散設(shè)備，很難將納米氧化鋅分散均勻，會出現(xiàn)團聚的現(xiàn)象，團聚體難以打開，而如果采用IKN**研發(fā)的分散設(shè)備，研磨分散機的話，先研磨后分散機，解決團聚問題，可達納米氧化鋅還原至納米級。

IKN研磨式分散機，是由膠體磨+分散機結(jié)合而成的設(shè)備，主要是為了解決納米級物料的分散，如：納米碳酸鈣、納米氫氧化鎂、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。

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CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

CMD2000系列研磨分散機的特點：

①   線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

納米氧化鋅研磨分散機，納米分散機，超細分散機，IKN研磨分散機納米級物料分散專家，在鋰電池、食品以及精細化工等領(lǐng)域有突出的應(yīng)用。