粉體行業(yè)在線展覽
CMD2000/4
10-20萬(wàn)元
IKN
CMD2000/4
3416
0-10微米
縮短工藝時(shí)間。IKN高剪切乳化分散設(shè)備可以迅速地混合分散二氧化鈦粉末,并消除結(jié)塊和團(tuán)聚。IKN也提供PLD和PLC粉體/液體混合機(jī),將粉體直接加入液體,無(wú)需循環(huán)處理,一次性通過(guò)便可成型。
二氧化鈦的混合、研磨、分散
上海 江西
【產(chǎn)品名稱(chēng)關(guān)鍵詞】二氧化鈦研磨分散機(jī),二氧化鈦分散難點(diǎn),二氧化鈦研磨設(shè)備,二氧化鈦分散設(shè)備,IKN研磨分散機(jī)
【IKN工業(yè)設(shè)備用于二氧化鈦分散和研磨的優(yōu)點(diǎn)】
一、縮短工藝時(shí)間。IKN高剪切乳化分散設(shè)備可以迅速地混合分散二氧化鈦粉末,并消除結(jié)塊和團(tuán)聚。IKN也提供PLD和PLC粉體/液體混合機(jī),將粉體直接加入液體,無(wú)需循環(huán)處理,一次性通過(guò)便可成型。
二、提高品質(zhì)。IKN高剪切混合機(jī)可以打碎結(jié)塊粉體,并與液體充分混合。這樣可以改善產(chǎn)品光澤和透明度,這兩個(gè)特征由分散好壞直接決定。
三、減少資金投入。IKN磨機(jī)可以**程度縮小粒徑,達(dá)到窄粒徑分布。IKN分散研磨設(shè)備的流量比同類(lèi)研磨設(shè)備高出很多,但也可達(dá)到相類(lèi)似的效果。模塊化設(shè)計(jì)的IKN 2000系列產(chǎn)品,可以幫助客戶(hù)節(jié)約資金投資。
【IKN研磨分散機(jī)的簡(jiǎn)介】
CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇)
咨詢(xún)熱線:13795214885 賈清清 微信同手機(jī)號(hào) 公司有樣機(jī)可供客戶(hù)購(gòu)前實(shí)驗(yàn),歡迎廣大客戶(hù)來(lái)我司參觀指導(dǎo)!
【CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)】
研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
**級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。
【CMD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn)】
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。
【CMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表】
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
2.處理量取決于物料的粘度,稠度和*終產(chǎn)品的要求。
3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。
4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng),定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).
產(chǎn)品咨詢(xún)
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