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混懸液研磨分散設備如何選用

CMD2000

直接聯(lián)系

上海依肯機械設備有限公司

德國

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報價:

10-20萬元

品牌:

IKN

型號:

CMD2000

關注度:

3188

范圍(量程或細度):

0-20微米

創(chuàng)新點:

CMD2000研磨機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

應用行業(yè):

醫(yī)藥 化工

典型用戶:

天津 江蘇

產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品關鍵詞概述:混懸液研磨分散設備如何選用   IKN研磨分散機  高剪切研磨分散設備  德國研磨分散機 醫(yī)藥混懸液研磨分散機


混懸劑(suspensions)系指難溶性固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質(zhì)中形成的非均勻分散的液體藥劑。分散相微粒的大小一般在0.5~10μm之間,小的微??蔀?.1μm,大的微??蛇_50μm或更大。混懸劑的分散介質(zhì)多為水,也有用植物油?;鞈覄儆跓崃W不穩(wěn)定的粗分散體系。
藥物可考慮制成混懸劑的情況為:①不溶性藥物需制成液體藥劑應用;②藥物的劑量超過了溶解度而不能制成溶液劑;③兩種溶液混合由于藥物的溶解度降低而析出固體藥物或產(chǎn)生難溶性化合物;④與溶液劑比較,為了使藥物緩釋長效。⑤與固體劑型比較,為了加快藥物的吸收速度,提高藥物的生物利用度。⑥固體劑型胃局部刺激性大的情況,可考慮用混懸劑。但對于毒劇藥物或劑量太小的藥物,為了保證用藥的安全性。則不宜制成混懸劑應用。
混懸劑的質(zhì)量要求是:藥物本身化學性質(zhì)應穩(wěn)定,有效期內(nèi)藥物含量符合要求;混懸微粒細微均勻,微粒大小應符合該劑型的要求;微粒沉降緩慢,口服混懸劑沉降體積比應不低于0.90,沉降后不結(jié)塊,輕搖后應能迅速分散;混懸劑的粘度應適宜,傾倒時不沾瓶壁;外用混懸劑應易于涂布,不易流散;不得有發(fā)霉、酸敗、變色、異臭、異物、產(chǎn)生氣體或其他變質(zhì)現(xiàn)象;標簽上應注明“用前搖勻”。
混懸劑一般為液體藥劑,也包括一種干混懸劑。它是將難溶性藥物與適宜輔料制成粉末狀或顆粒狀藥劑,臨用前加水振搖即可分散成混懸液。其主要是有利于解決混懸劑在保存過程中的穩(wěn)定性問題,并可簡化包裝,便于貯藏和攜帶。
混懸劑-混懸液的穩(wěn)定性

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混懸劑中藥物微粒與分散介質(zhì)之間存在著固液界面,微粒的分散度較大,使混懸微粒具有較高的表面自由能,故處于不穩(wěn)定狀態(tài)。尤其是疏水性藥物的混懸劑,存在更大的穩(wěn)定性問題。這里主要討論混懸劑的物理穩(wěn)定性問題,以及提高穩(wěn)定性的措施。
(一)混懸微粒的沉降
混懸劑中的微粒由于受重力作用,靜置后會自然沉降,其沉降速度服從Stokes定律:
按Stokes定律要求,混懸劑中微粒濃度應在2%以下。但實際上常用的混懸劑濃度均在2%以上。此外,在沉降過程中微粒電荷的相互排斥作用,阻礙了微粒沉降,故實際沉降速度要比計算得出的速度小得多。由Stokes定律可見,混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質(zhì)密度差成正比,與分散介質(zhì)的粘度成反比?;鞈椅⒘3两邓俣扔螅鞈覄┑膭恿W穩(wěn)定性就愈小。
為了使微粒沉降速度減小,增加混懸劑的穩(wěn)定性,可采用以下措施:①盡可能減小微粒半徑,采用適當方法將藥物粉碎得愈細愈好。這是***的一種方法。②加入高分子助懸劑,既增加了分散介質(zhì)的粘度,又減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差,同時助懸劑被吸附于微粒的表面,形成保護膜,增加微粒的親水性。③混懸劑中加入低分子助懸劑如糖漿、甘油等,減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差,同時也增加混懸劑的粘度。這些措施可使混懸微粒沉降速度大為降低,有效地增加了混懸劑的穩(wěn)定性。但混懸劑中的微粒*終總是要沉降的,只是大的微粒沉降稍快,細小微粒沉降速度較慢,更細小的微粒由于布朗運動,可長時間混懸在介質(zhì)中。
混懸劑的制備應使固體藥物有適當?shù)姆稚⒍龋⒘7稚⒕鶆?,混懸劑穩(wěn)定,再懸性好。混懸劑的制備方法有分散法和凝聚法。
1.
分散法將固體藥物粉碎、研磨成符合混懸劑要求的微粒,再分散于分散介質(zhì)中制成混懸劑。小量制備可用研缽,大量生產(chǎn)時可用分散機、膠體磨 高壓均質(zhì)機 研磨分散機等機械。
分散法制備混懸劑要考慮藥物的親水性。對于親水性藥物如氧化鋅、爐甘石、堿式碳酸鉍、碳酸鈣、碳酸鎂、磺胺類等,一般可先將藥物粉碎至一定細度,再采用加液研磨法制備,即1份藥物加入0.4~0.6份的溶液,研磨至適宜的分散度,*后加入處方中的剩余液體使成全量。加液研磨可用處方中的液體,如水、芳香水、糖漿、甘油等。此法可使藥物更容易粉碎,得到的混懸微??蛇_到0.1~0.5μm.對于質(zhì)重、硬度大的藥物,可采用“水飛法”制備?!八w法”可使藥物粉碎成極細的程度而有助于混懸劑的穩(wěn)定。

疏水性藥物制備混懸劑時,若藥物與水的接觸角>90°,不易被水潤濕,很難制成混懸劑。可加入潤濕劑與藥物共研,改善疏水性藥物的潤濕性。
助懸劑、防腐劑、矯味劑等附加劑可先用溶劑制成溶液,制備混懸劑時作液體使用。
現(xiàn)代固體分散技術,如藥物微粉化技術,應用于混懸劑的制備,可使混懸微粒更細小,更均勻,混懸劑的穩(wěn)定性更好,生物利用度更高。如應用氣流粉碎機,粉碎的藥物可同時進行分級,可得到5μm以下均勻的微粉;膠體磨能將藥物粉碎至小于1μm的微粉。

研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達到顆粒完全被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。

上海IKN技術,獨特創(chuàng)意,融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良,在原來CM2000系列的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤(均質(zhì)盤、乳化盤)。從而形成改良型的膠體磨,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化),將物料的處理一步到底的完成,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。

CMD2000研磨機有一定輸送能力,對高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

CMD2000研磨機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

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