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>納米油墨高剪切研磨分散機(jī)

納米油墨高剪切研磨分散機(jī)

CMD2000

直接聯(lián)系

上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

德國

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報價:

5-10萬元

品牌:

IKN

型號:

CMD2000

關(guān)注度:

2592

范圍(量程或細(xì)度):

0-2微米

創(chuàng)新點:

IKN研磨分散機(jī)采用優(yōu)化設(shè)計理念,將先進(jìn)的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中,為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供超強(qiáng)切割力。

應(yīng)用行業(yè):

化工

典型用戶:

河南 湖北 青島

產(chǎn)品介紹


納米油墨高剪切研磨分散機(jī),納米油墨高速研磨分散機(jī),納米油墨高速分散機(jī),納米油墨高剪切研磨機(jī),德國進(jìn)口高速研磨分散機(jī),納米油墨改進(jìn)型膠體磨,納米油墨14000轉(zhuǎn)研磨分散機(jī),納米油墨21000轉(zhuǎn)研磨分散機(jī)


IKN研磨分散機(jī)采用優(yōu)化設(shè)計理念,將先進(jìn)的技術(shù)與創(chuàng)新的思維有效融合,并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計中,為設(shè)備穩(wěn)定運行提供了保證.通過梳齒狀定子切割破碎,縫隙疏密決定細(xì)度大小,超高線速度的吸料式葉輪提供超強(qiáng)切割力。


 隨著對印刷質(zhì)量要求的不斷提高,對油墨也提出了更高的要求。市場上出現(xiàn)了諸如磁性油墨、熒光油墨、光致變油墨、溫致變油墨等等,使印刷業(yè)的發(fā)展躍上新的高度。

油墨的細(xì)度和純度,對印刷品質(zhì)量有很大影響。要印刷出高質(zhì)量的產(chǎn)品,必須要有細(xì)度、純高度的油墨作保證。油墨的細(xì)度就是指油墨中的顏料(包括填充料)顆粒的大小與顏料、填充料分布于連結(jié)料中的均勻度,它既反映到印品的質(zhì)量,同時又影響到印版的耐印率。工藝實踐情況表明,彩印產(chǎn)品用網(wǎng)紋版印刷或?qū)嵉匕婷嬷泻屑?xì)小陰字、陰線,印刷過程中易出現(xiàn)糊版、版面感染、質(zhì)量故障,如沒有認(rèn)真去檢查和分析,可能陷入操作誤區(qū),以為油墨稠度不適、粘度太大、布墨量太大或壓力太大而盲目作些錯誤的調(diào)整。誰知卻是由油墨細(xì)度不好引起的。油墨的細(xì)度與顏料、填充料的性質(zhì)和伙粒的大小有直接的關(guān)系。一般情況來說,用無機(jī)顏料(不包括炭黑)所制成的油墨,顆粒較粗。這與油墨的軋制工藝有很大關(guān)系。油墨在軋制過程中研磨的次數(shù)愈多,它就愈顯得均勻,顏料顆粒與連結(jié)料接觸面也就愈大,油墨的顆粒就愈細(xì),其印刷性能也就顯得愈好、愈穩(wěn)定。以印刷網(wǎng)紋版為例,版面上高調(diào)和中間調(diào)的1-4成網(wǎng)點不乏有之,要是油墨顆粒與點子面積的比例較接近的話,則容易使網(wǎng)點空虛或鋪展起毛,甚至出現(xiàn)點子不光潔之印刷弊病。因此,油墨細(xì)度愈高,印刷品上的網(wǎng)點也愈顯得清晰和飽滿有力。

納米油墨的特性

  納米技術(shù)是屬于新興的科學(xué)技術(shù)。納米是一個長度單位,為9m~10m,此技術(shù)的研究對象主要是納米材料。納米材料如今已開始滲透各個領(lǐng)域。1994年,美國的馬薩諸塞州xmx公司已成功獲得一項用于制造油墨用的納米級均勻微粒原料的**。由于納米金屬微粒能對光波全部吸收而使自身呈現(xiàn)黑色,同時對光又有散射作用。因此,利用這些特性,可把納米金屬微粒添加到黑色油墨中,制造納米墨油墨,以提高其純度和密度。此外,半導(dǎo)體納米粒子由于存在顯著的量子尺寸效應(yīng)和表面效應(yīng),因而對光的吸收表現(xiàn)出一定的特性。


上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時不停機(jī)運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良,將單一的膠體磨磨頭模塊,改良成兩級模塊,加入了一級分散盤??筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇) IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨,分散,乳化,均質(zhì)等功能,設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm,是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。


CMD2000模塊主要由兩層分散頭構(gòu)成,工作時,物料通過投料口進(jìn)入分散腔,首先到達(dá)層分散頭進(jìn)行處理,由于馬達(dá)帶動轉(zhuǎn)子齒列高速運轉(zhuǎn),產(chǎn)生渦流和離心力效應(yīng)使得物料軸向吸入分散頭,然后沿著定-轉(zhuǎn)子之間的縫隙被高速壓出完成次剪切作用,之后在轉(zhuǎn)子齒列與定子齒列的強(qiáng)力剪切間隙中物料被強(qiáng)烈撕裂后從定子齒列縫隙中流出時完成第二次剪切,接著流出的物料進(jìn)入第二層分散頭腔體,對處理過的物料再次進(jìn)行剪切(原理同上),從而確?;旌戏稚@得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒,生成的混合液穩(wěn)定性更好,滿足疫苗生產(chǎn)對于粒徑的要求。


CMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

研磨分散機(jī)的特點:

1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

 

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件: PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì):SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器


從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的


CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%



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