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>鹽酸頭孢噻呋膠體磨

鹽酸頭孢噻呋膠體磨

CM2000/4

直接聯(lián)系

上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

德國(guó)

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

5-10萬(wàn)元

品牌:

IKN

型號(hào):

CM2000/4

關(guān)注度:

2990

范圍(量程或細(xì)度):

0-10微米

創(chuàng)新點(diǎn):

CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。

應(yīng)用行業(yè):

醫(yī)藥

典型用戶:

江蘇

產(chǎn)品介紹

鹽酸頭孢噻呋膠體磨, 鹽酸頭孢噻呋研磨分散機(jī),鹽酸頭孢噻呋研磨機(jī),鹽酸頭孢噻呋改進(jìn)型膠體磨,


鹽酸頭孢噻呋膠體磨是透過(guò)膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及分散的效果。

             鹽酸頭孢噻呋膠體磨
鹽酸頭孢噻呋膠體磨

設(shè)備選型上注意幾點(diǎn):

  • 設(shè)備能夠達(dá)到無(wú)菌級(jí)別。即設(shè)備可以在線滅菌,可以耐受高溫,滅菌后可以保持無(wú)菌狀態(tài)。

  • 電機(jī)要求有變頻控制,可以有效延緩電機(jī)的壽命。

  • 膠體磨的不銹鋼材質(zhì)一定要耐磨,防止研磨過(guò)程出現(xiàn)金屬碎屑。

  • 關(guān)于生產(chǎn)效率配備、連接方式、電源、噪音、安全等問(wèn)題生產(chǎn)單位應(yīng)根據(jù)生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)考慮。

選定的膠體磨作為生產(chǎn)頭孢噻呋、頭孢喹肟等混懸液的關(guān)鍵設(shè)備,由于價(jià)格較貴,需要在廠家現(xiàn)場(chǎng)試驗(yàn),考察研磨效果。為做好此項(xiàng)工作,制定方案如下:

  • 周一高新區(qū)設(shè)備員根據(jù)三個(gè)廠家提供的資料,結(jié)合高新區(qū)的產(chǎn)能,優(yōu)選出2家設(shè)備,并確定設(shè)備的型號(hào)。同時(shí)確認(rèn)*小試驗(yàn)數(shù)量,以及試驗(yàn)現(xiàn)場(chǎng)是否有檢驗(yàn)研磨粒度的儀器。

  • 周一高新區(qū)水針車(chē)間根據(jù)廠家提供的*小配料量,配制試驗(yàn)兩家設(shè)備的物料。

  • 由于硫酸頭孢喹肟的價(jià)格較貴,本次試驗(yàn)采用鹽酸頭孢噻呋,暫不考慮喹肟(喹肟研磨時(shí)間較長(zhǎng))。

  • 初步按照每家設(shè)備4升體積的試驗(yàn)量,準(zhǔn)備8升數(shù)量的物料。具體物料數(shù)量由研發(fā)提供,高新區(qū)提供。

  • 根據(jù)試驗(yàn)數(shù)量,周一做出相應(yīng)比例的油膠溶液。準(zhǔn)備試驗(yàn)器材。

  • 試驗(yàn)方案

試驗(yàn)?zāi)康模簷z驗(yàn)?zāi)z體磨的研磨效果以及效率

試驗(yàn)器材:試驗(yàn)用膠體磨、顯微鏡、載玻片、涂針、留樣瓶、封口鉗、8號(hào)針頭、注射器,1ml移液管,溫度計(jì)。

試驗(yàn)步驟:


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1、現(xiàn)場(chǎng)確認(rèn)設(shè)備的型號(hào)、性能、以及清洗方式。

2、加入物料,設(shè)定3分鐘的研磨時(shí)間(假定4升物料研磨5分鐘合格,那么放大至80升物料,需要研磨60分鐘),取樣檢測(cè)粒度,記錄粒度分布數(shù)量。用移液管測(cè)量流速,用8號(hào)針頭測(cè)量通針性。以上數(shù)據(jù)作為比較兩家設(shè)備的參數(shù)。

3、如果3分鐘沒(méi)有達(dá)到效果,則繼續(xù)進(jìn)行5分鐘試驗(yàn)。以此類(lèi)推,繼續(xù)做好數(shù)據(jù)檢測(cè)。

4、在研磨性能試驗(yàn)完成以后,利用現(xiàn)有物料對(duì)膠體磨進(jìn)行連續(xù)開(kāi)機(jī)試驗(yàn),初步定為30分鐘,試驗(yàn)?zāi)z體磨的產(chǎn)熱降溫性能。測(cè)量機(jī)體軸承處溫度、測(cè)量研磨腔出來(lái)的料溫溫度,顯微鏡檢查料液中是否有金屬碎屑。以上數(shù)據(jù)作為比較兩家設(shè)備的數(shù)據(jù)。

 鹽酸頭孢噻呋膠體磨

鹽酸頭孢噻呋膠體磨細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要強(qiáng)于均質(zhì)機(jī),但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)(如高粘度、大顆粒),所以在很多場(chǎng)合下,它用于均質(zhì)機(jī)的前道或者用于高粘度的場(chǎng)合。 

研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第1級(jí)由具有精細(xì)度遞升的多級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出*終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

CMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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鹽酸頭孢噻呋膠體磨

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鹽酸頭孢噻呋膠體磨 - 2990
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