粉體行業(yè)在線展覽
PECVD系統(tǒng)
面議
科佳電爐
PECVD系統(tǒng)
1595
產(chǎn)品介紹:
該產(chǎn)品是由射頻電源、氣體質(zhì)子流量控制系統(tǒng)、襯底控溫系統(tǒng)、真空系統(tǒng)組成,適用于室溫至1200℃條件下進(jìn)行Si02、SiNx薄膜的沉積,同時(shí)可實(shí)現(xiàn)TEOS源沉積,Sic膜層沉積以及液態(tài)氣態(tài)源沉積其它材料,尤其適合干有機(jī)材料上高效保護(hù)層膜和特定溫度下無(wú)損傷鈍化膜的沉積。
1000℃立式管式爐
工業(yè)高溫箱式爐
井式坩堝爐
1600CVD 系統(tǒng)
三溫區(qū)傾斜旋轉(zhuǎn)管式爐
管式爐(帶蒸汽發(fā)生器)
PECVD系統(tǒng)
三溫區(qū)自動(dòng)進(jìn)出料旋轉(zhuǎn)管式爐
六溫區(qū)自動(dòng)進(jìn)出料旋轉(zhuǎn)管式爐
觸屏三溫區(qū)管式爐
旋轉(zhuǎn)管式爐
高溫氣氛爐
HTK
HXL-1600
BF1200款
固態(tài)預(yù)鋰/預(yù)鎂化中試爐MGB60-180HH1
箱式爐
OYS-1200C-S系列箱式爐
ZHX-B03183
YQFJ-1712
實(shí)驗(yàn)室1400℃箱式爐
GZL系列
MF-1200C-L
MITR-1200X-4.2L