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>M5111-8WKUM型高溫負(fù)壓氧化爐設(shè)備

M5111-8WKUM型高溫負(fù)壓氧化爐設(shè)備

M5111-8WKUM型高溫負(fù)壓氧化爐設(shè)備

直接聯(lián)系

中國電子科技集團(tuán)公司第四十八研究所

湖南

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報(bào)價:

面議

品牌:

電子科技

型號:

M5111-8WKUM型高溫負(fù)壓氧化爐設(shè)備

關(guān)注度:

288

產(chǎn)品介紹

高溫氧化爐是半導(dǎo)體器件加工中的典型熱處理設(shè)備,用于集成電路、分立器件、太陽能光伏行業(yè)中進(jìn)行氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝。

  • 高產(chǎn)能,單管產(chǎn)能可達(dá)1600片/批;

    溫控系統(tǒng)性能出色,采用可預(yù)測型五段雙回路智能溫控系統(tǒng)以及新型爐體,控溫精度和回溫性能優(yōu)異;

    全套倍福系統(tǒng)及總線控制方式,可靠性和信息化化性能優(yōu)異;

    自動上下料系統(tǒng),采用全自動上下料、在線式插取片對接系統(tǒng),擴(kuò)展了設(shè)備自動化程度,降低人工勞動強(qiáng)度,減少人工污染。

產(chǎn)能

硅片尺寸

156×156mm方片

單管裝片量

1600片/批(槽間距2.38mm)

工藝類型

高溫氧化、退火工藝

溫度控制系統(tǒng)

控溫方式

5段雙回路串級控制

控溫范圍

600℃~1100℃

恒溫區(qū)長度及精度

≤±0.5℃/1600mm(801℃~1100℃)

≤±1℃/1600mm(400℃~800℃)

單點(diǎn)穩(wěn)定性

±0.5℃/24h(靜態(tài),900℃)

爐體升降溫速率

**升溫20?C/min;**降溫5?C/min

氣路系統(tǒng)

流量控制方式

氮?dú)?、氧氣流量由MFC控制;保護(hù)氮?dú)庥筛∽恿髁坑?jì)控制

氣體控制精度

±0.5%FS

送舟機(jī)構(gòu)

水平推舟速率

1~400mm/min 連續(xù)可調(diào),定位精度≤±1mm

垂直升降速率

8~12mm/min

石英舟進(jìn)出方式

軟著陸、在線式(凈化臺側(cè)出舟)

SiC槳**承載

25Kg

控制系統(tǒng)

工藝監(jiān)控方式

工業(yè)平板電腦全自動控制(觸摸屏操作)

自動控溫功能

具有自動斜率升降溫及恒溫功能

工藝歷史記錄功能

核心工藝參數(shù)(溫度、壓力、流量、功率、電流、淀積時間)每3秒記錄一次,其他過程每10秒記錄一次。

報(bào)警保護(hù)功能

設(shè)備具有工藝狀態(tài)聲光提醒,以及計(jì)算機(jī)異常、超溫報(bào)警與欠溫、MFC偏差、反應(yīng)室壓力偏差、極限超溫報(bào)警和保護(hù)功能;

其他參數(shù)

設(shè)備峰值功率

280 KVA(5管)

保溫功率

75 KVA(5管)

設(shè)備柜體尺寸

7440mm(長)×2020mm(寬)×3530(高)

設(shè)備利用率

≥98%


產(chǎn)品咨詢

M5111-8WKUM型高溫負(fù)壓氧化爐設(shè)備

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M5111-8WKUM型高溫負(fù)壓氧化爐設(shè)備 - 288
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