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碳化硅單晶生長爐

碳化硅單晶生長爐

直接聯(lián)系

哈爾濱科友半導體產(chǎn)業(yè)裝備與技術研究院有限公司

黑龍江

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報價:

面議

品牌:

哈爾濱科友

型號:

碳化硅單晶生長爐

關注度:

548

產(chǎn)品介紹

一、生產(chǎn)對象:

生產(chǎn)六英寸碳化硅晶體

二、爐體結構:

石英管爐,石英管內徑400mm以上;抽空管道材質304;機架及門板材質為鋁合金等滿足結構強度的材料;線圈內徑≥420mm; 表面帶絕緣涂層處理

三、底座結構:

需裝載架承載熱區(qū),并可由合適的裝載卸載設備從底部進行裝載或卸載。

四、設備參數(shù):

加熱系統(tǒng):6英寸線圈                                                                                                                         進氣閥(控制):                                                                                                    2個;工藝氬氣流量1100Sccm;氮氣流量55Sccm;
工作溫度:滿足2650°C以內工藝要求;有效加熱功率≥40KW中頻感應電源:

額定功率≥40KW,電流精度0.05%,諧振頻率(kHz)10-12KHz單高溫計配制,上測溫,僅用于溫度監(jiān)視。測量范圍包括1000℃~3000℃,測溫精度 ±0.5%F.S.,測溫重復精度±2℃;測溫儀采用FLUKE E1RH系列紅外高溫計通氣 150sccm Ar 時工藝控壓(P)的精度:1500Pa以下的控壓精度:目標值±20Pa,1500Pa至10000Pa的控壓精度:目標值±50Pa

線圈和坩堝相對位置移動系統(tǒng):可以實現(xiàn) 慢速0.02~10㎜/h,快速≥100㎜/min的相對位置移動動作,升降系統(tǒng)需帶上下限位。使用機械泵加分子泵實現(xiàn)真空。控制系統(tǒng):全自動控制系統(tǒng),實現(xiàn)整個長晶過程的全自動控制;采用功率控制模式。
冷態(tài)或空爐時包括放氣率的總漏率:≤5.0E-9mBar·L/s ;極限真空下,保壓12h,壓升≤5Pa。控制系統(tǒng)數(shù)據(jù)和權限管理:可對長晶過程中的關鍵數(shù)據(jù)進行實時記錄并存檔,可追溯分析;直觀液晶顯示的人機交換界面,擁有用戶登錄及賬戶管理系統(tǒng),為方便生產(chǎn)管理,可為不同的賬戶分配不同的權限。
工藝氣體流量測量控制器(MFC):2個或以上;流量計精度±0.25%F.S.(<35% F.S.) ±1.0% S.P.(≥35% F.S.)裝料量要求及結構承重:下爐蓋及升降系統(tǒng)能承重48公斤或以上重量。
工藝氣體流量控制系統(tǒng):Ar和N2可按工藝節(jié)點設定,進行全自動坡度調節(jié)。出爐/進爐方向:下出料。


產(chǎn)品咨詢

碳化硅單晶生長爐

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碳化硅單晶生長爐 - 548
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