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成像

散射/衍射

光譜學(xué)/熒光特性

• 極微聚焦源

• 可選的快門(mén)

• **的焦斑品質(zhì)

• 可選的雙端口模式

• *低的和可預(yù)見(jiàn)的維護(hù)成本

• 用戶可調(diào)的焦斑尺寸和長(zhǎng)寬比

• LaB₆長(zhǎng)壽命陰極

• 非常穩(wěn)定的X射線發(fā)射和光斑位置

• 友好的圖形用戶界面

• 低的總消耗功率

• 集成防輻射屏

• 可調(diào)的出射角

• 無(wú)需額外冷卻水

• 可以使用電腦進(jìn)行遠(yuǎn)程操作

靶材¹

鎵或銦貴金屬合金

*小焦斑尺寸

~ 5 μm

靶類(lèi)型

液體射流

發(fā)射穩(wěn)定性³

< 1%

電壓

21-70kV/160KV

空間穩(wěn)定性³

< 1 μm

功率²

0-250 W

*小焦物距⁴

18 mm

**電流

4.3 mA

光束角⁵

13°/30°

常規(guī)固體金屬陽(yáng)極

液態(tài)金屬陽(yáng)極

功率負(fù)載能力

所有電子轟擊型X射線發(fā)生器的X射線強(qiáng)度都受限于陽(yáng)極材料的熱量承載能力。在傳統(tǒng)固體陽(yáng)極技術(shù)中，為了避免陽(yáng)極損壞，其表面的工作溫度必須遠(yuǎn)低于靶材的熔點(diǎn)，因此靶材的各種物理性質(zhì)，如熔點(diǎn)、導(dǎo)熱系數(shù)等極大地限制了電子束功率的范圍。液態(tài)金屬陽(yáng)極則大為不同，因?yàn)槟切┓乐拱胁娜刍拇胧┒疾豁氁?，這得益于靶材本身已處于熔化的狀態(tài)以及其不斷自再生的特點(diǎn)。完好如初的液態(tài)靶材以接近100m/s的速度在腔體內(nèi)循環(huán)。由于陽(yáng)極不斷地自再生，電子束對(duì)靶材的損壞將微乎其微。

極高的亮度

某種程度上，微焦斑X射線發(fā)生器的功率承載能力大致與焦斑的直徑而不是面積成比例。因此，光源的亮度反比于焦斑的直徑。

通過(guò)將極高的功率承載能力以及極小的電子束焦斑相結(jié)合，液態(tài)金屬射流光源能夠在微米級(jí)的焦斑上實(shí)現(xiàn)**的高亮度。

為了得到不同的X射線發(fā)射譜線，我們使用了不同的金屬合金。對(duì)于**代的MetalJet光源，其特點(diǎn)在于靶材在室溫附近就已經(jīng)熔化。但為了得到多樣的特征譜線以代替現(xiàn)有的常規(guī)固體陽(yáng)極，在將來(lái)我們還將開(kāi)發(fā)更多種類(lèi)的合金材料，即使它們的熔點(diǎn)會(huì)更高。

鎵(Ga)合金

目前可選的有富含鎵(Ga)的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為9.2keV， 對(duì)應(yīng)波長(zhǎng)約為1.35埃米， 類(lèi)似于銅靶的Kα波長(zhǎng)。

銦(In)合金

同樣可選的還有富含銦（In）的合金。其Kα發(fā)射譜線能量為24.2keV，對(duì)應(yīng)波長(zhǎng)約為0.51埃米，類(lèi)似于銀靶的Kα波長(zhǎng)。

焦斑質(zhì)量

歸功于先進(jìn)的電磁聚焦、光路校正技術(shù)以及高亮度LaB6陰極，高質(zhì)量的電子束焦斑得以實(shí)現(xiàn)，將其與連續(xù)再生的光滑液態(tài)靶材表面相結(jié)合，整個(gè)光源便能產(chǎn)生超高質(zhì)量的X射線焦斑。

可調(diào)的尺寸

焦斑的尺寸與高寬比均可被自由調(diào)整

光源有著相當(dāng)高的空間穩(wěn)定性。圖為附加在光源上的針孔相機(jī)所拍攝的焦點(diǎn)位置分布圖，如其所示焦斑在24小時(shí)內(nèi)距中心的標(biāo)準(zhǔn)偏差在0.1μm以下。