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世界**精度及強大功能Park原子力顯微鏡產(chǎn)品特性

Park XE15具備多個特殊功能，是共享實驗室處理各類樣品、研究員進行多變量實驗、失效分析師研究晶片等的不二選擇。合理的價格搭配強健的性能設置，使其成為業(yè)內(nèi)性價比**的大型樣品原子力顯微鏡。

MultiSample™（多重采樣^TM）掃描器帶來*便捷樣品測量

- 多樣品一次性自動成像

- 特殊設計的多樣品夾頭，*多可承載16個獨立樣品

- 全自動XY樣品載臺，行程范圍達200 mm x 200 mm。

無軸間耦合提高掃描精度

- 兩種獨立閉環(huán)XY和Z平板式掃描

- 平板式和線性XY掃描可達100μm x 100μm，且殘余壓彎小

- 整個掃描范圍內(nèi)的異面移動小于2nm

- 強力掃描器達25μm Z掃描范圍

- 精確的高度測量

Non-Contact™（真正非接觸^TM）模式延長針尖使用壽命、改善樣品保存及精度

- 其Z掃描頻寬是壓電管基礎系統(tǒng)的10倍

- 非接觸式可降低針尖磨損、延長使用壽命

- 成像分辨率高于同類原子力顯微鏡

- 降低樣品干擾，提高掃描精度

提供**用戶體驗

- 開放式側面接入，提高樣品及針尖更換效率

- 預對準的針尖安裝和****的軸上俯視法可簡單直觀地實現(xiàn)激光對準

- 燕尾鎖封片方便鏡頭拆卸

- 界面帶自動設置功能，方便用戶使用

多種模式與選項

- 綜合性測量模式及特性設置，是我司**通用型原子力顯微鏡

- 多種可選配件及更新，擴展性能優(yōu)越

-? 為缺陷分析提供先進電氣測量

* 產(chǎn)品特點

100um x 100 um掃描范圍的XY柔‘性導向掃描器

XY掃描器含系統(tǒng)二維彎曲及強力壓電堆疊，可使極小平面外移動形成較大的正交運動，并能快速響應，實現(xiàn)精確的樣品納米級掃描。

柔性導向強力Z掃描器

在強力壓電堆疊的驅動及彎曲結構的引導下，其硬度允許掃描器高速豎直運動，較傳統(tǒng)原子力顯微鏡掃描器更加高速。**Z型掃描范圍搭配遠程Z掃描器（選配）可延長12μm至25μm。

滑動連接的超亮二極管頭

通過將原子力顯微鏡頭沿楔形軌道滑動，可輕松將其插入或取出。低相干的超發(fā)光二極管頭可實現(xiàn)高反射表面的精確成像和力-矩光譜的精確測量。超亮二極管頭的波長幫助減輕干擾問題，因此用戶在可見光譜實驗中也可使用本產(chǎn)品。

多樣品夾頭

特殊設計的多樣品夾頭，做多可承載16個獨立樣品，由多重采樣掃描器自動按順序掃描。特殊的夾頭設計為接觸樣品針尖預留了邊通道。

選配編碼器的XY自動樣品載臺

自動集成XY載臺可輕松并精確控制樣品的測量位置。XY樣品載臺的行程范圍可配置為150 mm x 150 mm或200 mm x 200 mm。若搭配自動載臺使用編碼器，可提高樣品定位的精確度和重復性。編碼XY載臺工作時分辨率為1 μm，重復率為2 μm。編碼Z載臺的分辨率為0.1 μm，重復率為1 μm。

高分辨率數(shù)碼變焦感光元件攝像頭

高分辨率數(shù)碼感光元件攝像頭利用直接同軸光學，具備變焦功能，無論是否搖攝均可確保圖像具有清晰的成像質量。

垂直對齊的自動Z載臺及聚焦載臺

Z載臺和聚焦載臺可將懸臂嚙合到樣品表面上，同時確保用戶視野清晰穩(wěn)定。聚焦載臺是由軟件控制自動運行的，因此滿足透明樣品及液態(tài)元件應用所需精度。

彎曲基底解耦XY和Z掃描器

Z掃描器與XY掃描器完全解耦。XY掃描器在水平面上移動樣品，同時Z掃描器豎直移動探針。

此配置以*小異面移動，實現(xiàn)了平板式XY掃描。此XY掃描同時還具有高正交性與線性。

業(yè)內(nèi)*低本底噪聲

為探測*小樣品的特性，幫助*快運動平面成像，Park Systems設計了業(yè)內(nèi)0.5?以下的*低本底噪聲標準設備。使用“零掃描”探測本地噪聲數(shù)據(jù)。

真正非接觸模式延長針尖使用壽命

XE系列原子力顯微鏡已成功搭配**強力Z掃描系統(tǒng)獨有的真正非接觸模式。真正非接觸模式下，使用的是相吸而非相排斥的內(nèi)部原子力。

真正非接觸模式因此成功地保持了針尖樣品納米級間距，改善了原子力顯微鏡圖像，保持針尖的銳利，因此有效延長了針尖使用壽命。

預對準懸臂支撐

預先安裝在探針支撐上，因此不需要嚴格對齊激光束。

高分辨率的直接同軸光學元件

用戶可直接俯視觀看樣品，操控樣品表面，從而很容易就能找到目標區(qū)域。高分辨率數(shù)碼攝像頭具備變焦功能，無論是否搖攝均可確保圖像具有清晰的成像質量。

帶DSP控制芯片的XE控制電子元件

原子力顯微鏡發(fā)出的納米級信號將由高性能Park XE電子元件控制并處理。Park XE電子元件為低噪聲設計，配備高速處理單元，可成功實現(xiàn)真正非接觸™模式，是納米級成像及電壓電流精準測量的理想選擇。

- 600 MHz、4800 MIPS速度的高性能處理單元

- 低噪聲設計，適合電壓電流精準測量

-通用系統(tǒng)，各SPM技術均可得到應用

- 外部信號接入模塊，存取原子力顯微鏡輸入/輸出信號

- *多16個數(shù)據(jù)成像

- **數(shù)據(jù)尺寸：4096 x 4096像素

- 16位ADC/DAC，速度達500 kHz

- TCP/IP連接，隔離計算機接出電噪

技術參數(shù)：

掃描器： XY掃描器 Z掃描器

閉環(huán)控制的單模塊撓性XY掃描器 導向強力Z掃描器

掃描范圍：100 μm * 100 μm 掃描范圍：12 μm

25μm（選配）

樣品臺： XY臺工作范圍：150 mm * 150 mm

Z臺工作范圍：27.5 mm

聚焦臺工作范圍：20 mm

影像： 1 樣品基底

樣品表面和懸臂的直觀同軸影像 樣品**尺寸：150 mm

10倍物鏡（選配20倍） 樣品**厚度：20 mm

視野： 480 μm *360 μm （10倍物鏡）

攝像頭：1M Pixel， 5M Pixel (選配）

軟件： XEP XEI

系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)采集的專用軟件 AFM數(shù)據(jù)分析軟件

實時調(diào)整反饋參數(shù)

通過外部程序（選項）進行腳本級控制

售后服務：

為了給客戶提供高效便捷的售后服務， Park公司在中國區(qū)建立有售后服務中心并配有備件倉庫。