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Park Systems XE7原子力顯微鏡

直接聯(lián)系

Park帕克原子力顯微鏡

韓國

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報價:

面議

關(guān)注度:

376

產(chǎn)品介紹

Park XE7

創(chuàng)新研究的經(jīng)濟之選

Park XE7配有Park Systems的所有頂尖技術(shù),而且價格十分親民。XE7在細節(jié)的設(shè)計上也相當用心,是幫助您準確且不超預(yù)算地完成研究的理想之選。

****的高性能

在同級產(chǎn)品中,Park XE7能夠帶來**納米級分辨率的測量效果。得益于獨特的原子力顯微鏡架構(gòu),即獨立的XY軸和Z軸柔性掃描器,XE7能夠?qū)崿F(xiàn)平滑、正交且線性的掃描測量,從而精確成像和測量樣品的特征。此外,Park所獨有的True Non-Contact™模式還能為您帶來****的圖像效果,探針可以在多次掃描后圖像的分辨率仍不會受影響。

滿足當前和未來需求

在Park XE7的幫助下,現(xiàn)在與未來皆在您的掌控中。Park XE7帶有業(yè)內(nèi)*全面的測量模式。這些模式不僅能滿足您目前的需求,也考慮到未來不斷變化的需求。再者,XE7具有市場上*為開放性的設(shè)計,允許您整合其他附件和儀器,從而滿足您特殊的研究需求。

易于使用和高生產(chǎn)率

Park XE7擁有簡潔的圖形用戶界面和自動化工具,即便是初學(xué)者也可以快速地完成對樣品的掃描。無論是預(yù)準直探針、簡單的樣品和探針更換、輕松的激光準直、自上而下的同軸視角以及用戶友好型掃描控制和軟件處理,XE7能夠全力推動研究效率的提高。

經(jīng)濟實惠超越了系統(tǒng)成本

Park XE7不僅僅是**性價比的研究級原子力顯微鏡,也是使用成本*低的原子力顯微鏡。Park XE7中所搭載的True Non-Contact™模式讓用戶無需頻繁更換昂貴的探針尖端,并且它配有業(yè)內(nèi)*多的掃描模式,兼容性**,讓您可隨時升級系統(tǒng)功能,從而延長產(chǎn)品的使用壽命

ParkXE7

滿足先進研究的創(chuàng)新功能

精確的XY方向掃描,徹底消除了交叉耦合誤差

樣品探針和針尖的兩種獨立閉環(huán)XY和Z平板式掃描

平板式和線性XY掃描,殘余彎曲誤差極小

整個掃描范圍內(nèi)的水平線性誤差小于2nm

精確的高度測量

Non-ContactTM(真正非接觸TM)模式能夠延長針尖壽命,

提供高分辨率和保護樣品。

其Z伺服速度是壓電管基礎(chǔ)系統(tǒng)的10倍

非接觸式可降低針尖摩損、延長使用壽命

成像分辨率優(yōu)于同類原子力顯微鏡

增強樣品兼容性,提高掃描速度

*豐富的功能拓展方案

支持多種SPM模式

多種可選配測量模式

多種可選配件及更新,擴展性能優(yōu)越

*為便利的使用設(shè)計

開放式樣品空間,提高樣品及針尖更換效率

預(yù)對準針尖安裝和同軸直視光路直觀地實現(xiàn)激光對準

燕尾鎖方便鏡頭拆卸

Park XE7

AFM技術(shù)

無掃描器弓形彎曲的平直正交XY軸掃描

Park的串擾消除技術(shù)不僅改善了掃描器弓形彎曲的缺點還能夠在各種不同掃描位置,掃描速度和掃描尺寸條件下進行平直正交的XY軸掃描。即使是*平坦的樣品也不會出現(xiàn)如光學(xué)平面,各種偏移掃描等曲率的背景。由此可以為您在研究中遇到的所有**挑戰(zhàn)性的問題提供高精確度的納米測量。

無耦合關(guān)系的XY和Z掃描器

Park和競爭對手*根本的區(qū)別在于掃描器的構(gòu)造,Park獨特又獨立的XY軸與Z軸掃描器設(shè)計使其達到了無可比擬的高精度的納米分辨率數(shù)據(jù)。

精確的表面測量

樣品表面平直掃描!

低殘差弓形彎曲

無需軟件處理(原始數(shù)據(jù))

不受掃描位置影響也會有精確的掃描結(jié)果

真正非接觸模式TM可保護針尖鋒利度

原子力顯微鏡的針尖本身很脆弱,在掃描過程中,針尖磨損會逐漸降圖片質(zhì)量和分辨率。

測量表面軟的樣品時,針尖也會破壞樣品并生成不準確的樣品高度測量數(shù)據(jù)。

作為Park原子力顯微鏡*獨特的一種掃描模式,

真正非接觸模式TM可持續(xù)獲得高分辨率且精確的數(shù)據(jù),同時保持針尖的完整性。

ParkXE7

配備創(chuàng)新的AFM技術(shù)

10 um x 10um掃描范圍的二維柔性導(dǎo)向掃描器

XY軸掃描器含有對稱的二維柔性和高強度壓電疊堆,可在保持平面外運動*少的情況下,實現(xiàn)高正交運動以及納米級樣品掃描下的高影響度。緊湊且堅固的結(jié)構(gòu)是為了低噪聲高速伺服回應(yīng)而設(shè)計的。

柔性導(dǎo)向的高強力Z軸掃描器

憑借著高強度壓電疊堆和柔性結(jié)構(gòu),其可以允許掃描器以**的速度縱向移動,這是傳統(tǒng)原子力顯微鏡中掃描器所無法做到的。**Z軸掃描范圍可從標準的12μm增至40μm(選配件,長距離Z軸掃描器)。

滑動連接的SLD掃描頭

燕尾式軌道設(shè)計,輕松更換原子力顯微鏡鏡頭。該設(shè)計可將鏡頭自動鎖定至預(yù)對準的位置,同時與電路系統(tǒng)連接,無線纜操作,重復(fù)定位精度幾奈米。借助低相干性的830nmSLD激光器,顯微鏡可精確成像并可在皮牛量級進行力-距離曲線獲取。此外,SLD激光器830nm的波長也消除了環(huán)境光照的干擾,讓用戶可隨意在可見光譜實驗中使用原子力顯微鏡。

操作簡易的樣品臺

開放式設(shè)計可容納**100mm*100mm*20mm的樣品,且可輕易從側(cè)面更換樣品和探針。

手動的XY軸樣品臺

在手動XY軸樣品臺的精確控制下,樣品的測量定位變得簡單。 XY軸樣品臺的行程范圍是13mm x 13mm。

手動的光學(xué)對焦平臺

同軸鏡頭可手動調(diào)焦。

以DSP為核心的電路控制系統(tǒng)

原子力顯微鏡的納米級信號是由高性能的Park XE電子控制器所控制和處理的。憑借著低噪聲設(shè)計和高速處理單元,Park XE電子控制器成功實現(xiàn)了True Non-ContactTM模式,這是納米級成像和精確電壓電流測量的**選擇。

高性能DSP,頻率達600MHz,處理速度高達4800MIPS

低噪聲設(shè)計,帶來精確的電流電壓測量

全能系統(tǒng),融合各種掃描探針顯微鏡技術(shù)

外部信號獲取模塊,獲取原子力顯微鏡輸入/輸出信號

**16位數(shù)字圖像

**16位數(shù)字圖像

16位ADC/DAC,頻率為500kHz

利用TCP/IP連接隔離電腦噪聲

Park XE7

世界上*精準和*容易操作的AFM

10μm x10μm掃描范圍的二維撓性導(dǎo)向掃描器

XY掃描器含系統(tǒng)二維柔性和強力壓電堆疊,全范圍正交移動時,具有業(yè)界*小的水平線性誤差,并能實現(xiàn)精確的樣品納米級掃描。

帶高分辨率的同軸直視光路

同軸直視光路使得用戶直接俯視觀看樣品,從而很容易就能找到目標區(qū)域。高分辨率CCD具備變焦功能,移動過程中可確保清晰的圖像質(zhì)量。

簡單的探針和樣品更換

獨特的頭部設(shè)計讓您能夠輕易地從側(cè)面更換新的探針和樣品。借助安裝懸臂式探針夾頭中預(yù)先對齊的懸臂,你無需進行繁染的激光校準工作。

簡單且敏銳的激光校準

憑借著我們先進的預(yù)校準懸臂架,懸臂在裝載時激光便可聚焦完畢。此外,自上而下的同軸視角讓您可以輕松地找到激光光點。由于激光垂直照射在懸臂上,您可以憑兩個定位旋鈕,將激光光點準確定位。這樣,您可以在激光準直界面中,輕易地找到激光并將其定位在PSPD上。此時,您只需要稍微調(diào)整以**化信號,便可開始獲取數(shù)據(jù)。

Park XE

適用于任何研究

標準成像

真正的非接觸模式

接觸模式

間歇式(輕敵式)AFM

橫向力模式(LFM)

相位成像

化學(xué)性能

功能化探針的化學(xué)力顯微鏡

電化學(xué)顯微鏡(EC-STM和EC-AFM)

介電/電壓性能

靜電力顯微鏡(EFM)

動態(tài)接觸式靜電力顯微鏡(DC-EFM)

壓電力顯微鏡(PFM)

高電壓PFM

力測量

力-距離(F-D)光譜

力-體積成像

熱噪聲法標定彈性系數(shù)

電性能

導(dǎo)電AFM

IV譜線

掃描開爾文探針顯微鏡(SKPM/KPM)

高電壓SKPM

掃描電容顯微鏡(SCM)

掃描電阻顯微鏡(SSRM)

掃描隧道顯微鏡(STM)

掃描隧道光譜(STS)

時間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)

磁性能

磁力顯微鏡(MFM)

可調(diào)外加磁場MFM

機械性能

力調(diào)制顯微鏡(FMM)

納米壓痕

納米刻蝕

高電壓納米刻蝕

納米操控

壓電力顯微鏡(PFM)

光學(xué)性能

探針增強拉曼光譜(TERS)

時間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)

熱性能

掃描熱感顯微鏡

選項

25μmZ掃描器

工作距離:25μm

激光類型:LD(650nm)orSLD(830nm)

掃描器諧振頻率:1.7kHz

零位掃描噪聲:0.03nm(typical),0.05nm(maximum)

光學(xué)頭

光學(xué)兼容性:上方及側(cè)面

激光類型:LD(650nm)orSLD(830nm)

Z掃描范圍:12μm or 25μm

零位掃描噪聲:0.03nm(typical),0.05nm(maximum)

掃描器諧振頻率:3kHz(12μm XE Head),1.7kHz(25μm XE Head)

磁場發(fā)生器

施加外部磁場,平行于樣品表面方向

強度范圍:-300 ~+300 高斯,-1500 ~ +1500高斯

磁場強度可調(diào)

由純鐵芯和雙螺線管組成

夾制探手

適用于未裝載的探針

可以為電力顯微鏡和導(dǎo)電顯微鏡提供偏壓

探針偏壓范圍:-10V to +10V

支持所有標準模式及高級模式,掃描隧道顯微鏡、掃描電容顯微鏡及液體成像除外。

液體池

多功能液池

注滿液體/氣體的開式或閉式液池

控溫范圍:4°C to +110°C(in air), 4°C to +70°C(with liquid)

電化學(xué)工作池

開放/閉式液池

液池用探手

專為液體環(huán)境成像設(shè)計

耐常見緩沖液及弱酸堿腐蝕

在液體環(huán)境下實現(xiàn)接觸和非接觸成像

控溫臺

制熱制冷臺(-25~180度)

250度控溫臺

600度0控溫臺

信號接入模塊

使原子力顯微鏡可接入各種輸入/輸出信號

XY及Z掃描器的掃描器驅(qū)動信號

XY及Z掃描器的位置信號

垂直/水平方便的懸臂撓度信號

樣品及懸臂的偏壓信號

XE7的驅(qū)動信號

系統(tǒng)的輔助輸入信號

ParkXE7

產(chǎn)品系數(shù):

掃描器

XY掃描器

閉環(huán)控制式單模塊柔性XY-掃描器

掃描范圍:100μm x 100μm

50μm x 50μm

10μm x 10μm

Z掃描器

柔性引導(dǎo)高力度掃描器

掃描范圍:12μm

25μm

光學(xué)系統(tǒng)

可觀察樣品和探針的直視同軸光學(xué)系統(tǒng)

10X物鏡(可選20X)

視場:480X360μm

CCD:1M像素(像素分辨率:0.4μm)

樣品尺寸

樣品尺寸:**10mm

樣品高度:**20mm

電路系統(tǒng)

高性能DSP : 600 MHz with 4800 MIPS

**圖像尺寸: 4096 x 4096像素, 16個數(shù)據(jù)圖像

信號輸入: 在500kHz取樣時, 16位ADC的20個通道

信號輸出: 在500kHz取樣時, 16位ADC的21個通道

同步信號 :圖像結(jié)束, 線結(jié)束及像素結(jié)束TTL信號

主動Q控制(選配)

懸臂梁彈性常數(shù)校準(選配)

CE Compliant

電源 : 120 W

信號處理模塊 (選配)

選項/模式

標準成像

真正的非接觸模式

接觸模式

間歇式(輕敲式)AFM

橫向力模式(LFM)

相位成像

化學(xué)性能

功能化探針的化學(xué)力顯微鏡

電化學(xué)顯微鏡(EC-STM和EC-AFM)

介電/壓電性能

靜電力顯微鏡(EFM)

動態(tài)接觸式靜電力顯微鏡(DC-EFM)

壓電力顯微鏡(PFM)

高電壓PFM

力測量

力-距離(F-D)光譜

力-體積成像

磁性能

磁力顯微鏡(MFM)

可調(diào)外加磁場MFM

光學(xué)性能

探針增強行拉曼光譜(TERS)

時間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)

電性能

導(dǎo)電AFM

I-V譜線

掃描開爾文探針顯微鏡(SKPM/KPM)

高電壓SKPM

掃描電容顯微鏡(SCM)

掃描電阻顯微鏡(SSRM)

掃描隧道顯微鏡(STM)

掃描隧道光譜(STS)

時間分辨的光電流測繪(Tr-PCM)

機械性能

力調(diào)制顯微鏡(FMM)

納米壓痕

納米刻蝕

納米刻蝕

納米操縱

壓電力顯微鏡(PFM)

熱性能

掃描熱感顯微鏡

樣品臺

XY臺工作范圍:13X13mm

Z臺工作范圍:29.5mm

聚焦臺工作范圍:70mm

軟件

XEP

系統(tǒng)控制和數(shù)據(jù)采集的專用軟件

實時調(diào)整反饋參數(shù)

通過外部程序(選項)進行腳本級控制

XEI

AFM數(shù)據(jù)分析軟件

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Park Systems XE7原子力顯微鏡

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Park Systems XE7原子力顯微鏡 - 376
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