粉體行業(yè)在線展覽
CM-014
100-150萬元
超邁光電
CM-014
355
●本設(shè)備主要用于半導(dǎo)體刻蝕,能夠兼容離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕功能,使用氣態(tài)化學(xué)刻蝕劑與材料產(chǎn)生反應(yīng)來進(jìn)行刻蝕,并形成可從襯底上移除的揮發(fā)性副產(chǎn)品,通過真空系統(tǒng)排出,特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。
CM-008
CM-007
CM-005
CM-006
CM-004
CM-003
CM-002
CM-001
CM-020
CM-019
CM-018
CM-017
TH-F120
BL-GHX-VK
ParticleX TC
觀世
在線濁度計
SuperSEM
CELL PAT
FS500全譜直讀光譜儀
OES1000
在線折光儀PRB21
蜂鳥10X42