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●該設備為電阻、電子束或電阻電子束復合鍍膜系統(tǒng)，同時兼容IBE等離子刻蝕和在線輔助鍍膜，過流部件均采用SUS304制造，真空系統(tǒng)后置，標準配置分子泵系統(tǒng)，標配工業(yè)級人機界面和西門子PLC系統(tǒng)，手動和自動模式自由切換，能夠滿足工業(yè)客戶小批量生產和科研院所客戶科研實驗的需求。該系列設備不提供全手動操作控制系統(tǒng)。

形式：箱式一體機，立式前開門，蒸發(fā)室和抽氣室為整體焊接式，一體機系統(tǒng)。

●真空系統(tǒng)：極限真空5X10-4Pa，主泵為復合分子泵。

●真空測量：配三路數(shù)字復合真空計，均采用安全防爆金屬測量規(guī)。

●工件架系統(tǒng)：客戶需求定制，配置可擴展4英寸、3英寸、2英寸基片的專用互換工裝，轉速3～30rpm變頻可調，工件盤為球形和行星工件盤可選，行星工件盤成本較高。

●烘烤系統(tǒng)：不銹鋼鎧裝加熱器匹配數(shù)字功率控制器和PID控制模塊，烘烤溫度300℃，溫控精度1℃，過沖不超過2℃。

●電子束蒸發(fā)源：E型電子束蒸發(fā)源系統(tǒng)(E型)1套，主體有屏蔽罩，單槍、單電源、單掃描，配置獨立高壓控制柜。

●坩堝：坩堝1套，電動轉位和點動轉位，配置無氧銅坩堝和石墨坩堝各一套。

●電阻蒸發(fā)源：2套電阻蒸發(fā)源。（選配）

●膜厚測試系統(tǒng)：配瑞士inficon石英膜厚在線測量系統(tǒng)， RS-232 和 USB兼容，匹配水冷膜厚探頭。

●離子源輔助沉積系統(tǒng)：一套（選配離子源或高壓離子轟擊系統(tǒng)）

●控制系統(tǒng)：成熟可靠的真空鍍膜控制系統(tǒng)，工業(yè)級10英寸觸摸屏和西門子PLC，能夠實現(xiàn)抽真空、工轉烘烤、自動充氣、自動鍍膜、自動冷卻放氣等鍍膜生產流程；支持半自動和手動等鍍膜操作方式。水、電、氣路有故障自動報警和保護系統(tǒng)，采用聲光報警。

●說明：根據用戶要求，公司愿與客戶聯(lián)合研發(fā)，共享知識產權，公司致力于工藝與設備**匹配。