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儀器簡介：

等離子清洗器——*理想的超清洗設(shè)備

等離子清洗器是一種小型化、快速、非破壞性并無化學(xué)污染的臺式射頻氣體放電超清洗設(shè)備，主要用于需要表面超清洗的許多領(lǐng)域中，它也被用于一些材料表面化學(xué)改性。等離子清洗器清洗介質(zhì)采用惰性氣體，有效避免了其它清洗方法使用液體清洗介質(zhì)對被清洗物所帶來的二次污染。等離子清洗器有一個清洗腔，外接一個標(biāo)準(zhǔn)真空泵，開機后清洗腔中的氣體在高頻高壓下產(chǎn)生電磁場，從而形成的等離子體輕柔地沖擊被清洗物的表面，短時間的清洗就可以使被清洗物表面的有機污染物被逐步徹底地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走。對某些特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和侵潤性，并使這些材料得到了消毒。用戶可以根據(jù)清洗需要選擇不同的配件（石英清洗腔、石英支架等）。等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)材料、半導(dǎo)體工業(yè)、生物芯片、生物醫(yī)學(xué)、牙科、高分子科學(xué)等各個方面。

應(yīng)用領(lǐng)域如下：

1、清洗光學(xué)器件、電子元件、激光器件、鍍膜基片、芯片

· 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片

· 移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)

· 清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石

· 清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板

· 清洗生物芯片、微流控芯片

· 清洗沉積凝膠的基片

2、牙科領(lǐng)域：對硅酮壓模材料和鈦制牙移植物的預(yù)處理，增強其浸潤性和相容性

3、醫(yī)用領(lǐng)域：修復(fù)學(xué)上移植物的表面預(yù)處理，增強其浸潤性、粘附性和相容性，醫(yī)療器械的消

毒和殺菌

4、改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力

5、去除金屬材料表面的氧化物

6、使玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面活化，增強其表面粘附性、浸潤性、相容性

7、高分子材料表面修飾

等離子清洗器對于表面需要超清潔的所有領(lǐng)域是*理想的超清洗設(shè)備。

技術(shù)參數(shù)：

型號規(guī)格：PDC－32G－2（基本型）

整機規(guī)格：8×10×8（長×寬×高）英寸

反應(yīng)艙規(guī)格：Φ3×L6.5英寸耐熱玻璃

輸入電源：220V／50Hz

整機輸入功率：100 W

射頻功率檔：低檔680V DC、10mA DC、6.8W

中檔700V DC、15mA DC、10.5W

高檔720V DC、25mA DC、18W

特征：緊湊的臺式設(shè)備，應(yīng)用一個**功率為18瓦的RF線圈，沒有RF輻射，符合CE安全標(biāo)準(zhǔn)，艙蓋可拆卸。

型號規(guī)格：PDC—002（擴展型）

整機規(guī)格：9×18×11（長×寬×高）英寸

反應(yīng)艙規(guī)格：Φ6×L6.5英寸耐熱玻璃

輸入電源：220V／50Hz

整機輸入功率：200 W

射頻功率檔：低檔716V DC、10mA DC、7.16W

中檔720V DC、15mA DC、10.15W

高檔740V DC、40mA DC、29.6W

特征：緊湊的臺式設(shè)備，沒有RF幅射，符合CE安全標(biāo)準(zhǔn)。反應(yīng)艙蓋具備鉸鏈、磁力鎖及可視窗口。

選配件：

石英等離子清洗艙

提供各自計量兩種不同氣體進氣和監(jiān)測壓力的氣體計量混合器Plasma FLO^TM

需要：

兼容的真空泵，*小速率為1.4 m³/hr，**極限為200 MTorr

包括：

1/8英寸NPT針閥束引入氣體和控制壓力

主要特點：

• 它具有性能穩(wěn)定、性價比高、清洗效率高、操作簡便、使用成本極低、易于維護。

• 各種形狀金屬、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等固體物件表面的超清洗和改性。

• 完全徹底地清除樣品表面的有機污染物。

• 定時處理、快速處理、操作簡便。

• 對樣品和環(huán)境無二次污染。

• 非破壞性處理