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ETD-2000C型離子濺射儀在ETD-2000離子濺射儀基礎(chǔ)上，增加了熱蒸發(fā)附件，可以蒸發(fā)碳絲，具有濺射和蒸發(fā)兩種功能。因此擴展了應(yīng)用范圍，特別適用于掃描電鏡實驗室樣品制備。

工作時結(jié)合內(nèi)部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及選擇所需的電離氣體，獲得**鍍膜效果。

一款既能濺射金、銀、銅、鉑又能蒸發(fā)碳膜的一機多用設(shè)備。此款機器具有小巧方便操作簡單成膜效果好之優(yōu)點，可以滿足廣大SEM用戶樣品制備的需要。

離子濺射部分是比較常用的鍍膜方式，是以金屬靶材和樣品臺分別作為陰陽兩極，在真空狀態(tài)下產(chǎn)生輝光放電，使金原子與殘存的氣體不斷碰撞而沉積成薄膜。可以使用Au，Pt，Cr、Al、Cu等靶材。

具有成膜均勻，操作簡單，所需時間短，過程可控等優(yōu)點。

熱蒸發(fā)部分是把待鍍膜的基片或工件置于真空室內(nèi)，通過對鍍膜材料加熱使其蒸發(fā)氣化而沉積與基體或工件表面并形成薄膜或涂層的工藝過程。通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是歷史*悠久的鍍膜技術(shù)之一。熱蒸發(fā)主要用于蒸發(fā)碳。使用超純的碳纖維繩為嚴格的高分辨掃描電鏡、透射電鏡、EBSD及探針分析提供高質(zhì)量的鍍膜處理。因為碳原子能夠直接沉積在樣品表面而不發(fā)生橫向移動，所以碳能夠形成小于1nm的顆粒。

參數(shù)：

儀器尺寸 ：305mm×400mm×390mm（W×D×H）

真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）

靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）

濺射靶材：Au（標配），也可根據(jù)實際情況配備銀靶、鉑靶等。

濺射靶材大小：φ50mm

樣品臺：樣品臺尺寸可安裝直徑50mm和直徑70mm的樣品臺，也可根據(jù)自身要求定制樣品臺

濺射工作電壓：0-1600V (DC)可調(diào)

濺射電流：0-50mA

濺射定時：0-360S

蒸碳電流 0-100A(AC)

蒸發(fā)材料：碳纖維

蒸發(fā)工作電壓：0-30V

蒸發(fā)時間：0-1S

微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管

可通入氣體： 多種

輸入電壓：220V(可做110V)，50HZ

真空泵： 2升機械旋轉(zhuǎn)泵（國產(chǎn)VRD-8）

特點：

1、簡單、經(jīng)濟、可靠。

2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小。

3、真空保護可避免真空過低造成設(shè)備短路。

4、同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑、銥、銀、銅等），以達到更細顆粒的涂層。

5、通過通入不同的惰性氣體以達到更純凈的涂層。

6、數(shù)字計時器定時自由方便。

7、碳纖維繩更加細膩均勻、快速，更有利于分析材料結(jié)構(gòu)

需要鍍膜的樣品

1、電子束敏感的樣品:

主要包括生物樣品，塑料樣品等。S EM中的電子束具有較高能量，在與樣品的相互作用過程中，它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對電子束敏感的材料，那這種相互作用會破壞部分甚至整個樣品結(jié)構(gòu)。這種情況下，用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護層的作用，防止此類損傷；

2、非導(dǎo)電的樣品:

由于樣品不導(dǎo)電，其表 面帶有“電子陷阱”， 這種表面上的電子積累 被稱為“充電”。為了 消除荷電效應(yīng)，可在樣 品表面鍍一層金屬導(dǎo)電 層，鍍層作為一個導(dǎo)電 通道，將充電電子從材 料表面轉(zhuǎn)移走，消除荷 電效應(yīng)。在掃描電鏡成 像時，濺射材料增加信 噪比，從而獲得更好的成像質(zhì)量。

3、新材料:非導(dǎo)電材料和半導(dǎo)體材料