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GHB-T4加熱狀態(tài)

一、優(yōu)勢(shì)：

1、制樣量大10分鐘約做4個(gè)樣。

2、鉑黃金坩堝用量少節(jié)省資金。

3、不需要擺動(dòng)功能，轉(zhuǎn)動(dòng)停止坩堝始終停止在水平位置，減少了機(jī)械故障。

4、操作安全冷卻后再取放樣。

5、缺點(diǎn)是坩堝底部粗糙后需要打磨光或者重新加工。

二、用途及適用范圍：

XRF高頻熔樣爐是與X射線熒光光譜分析儀配套使用的一種熔融法制樣設(shè)備。也可用于原子吸收光譜儀（ＡＡ）和感應(yīng)藕合等離子體（ＩＣＰ）分析樣品的溶液制作。

在X射線熒光光譜分析中，樣品處理是否恰當(dāng)對(duì)檢測(cè)準(zhǔn)確度影響很大，熔融制樣法是準(zhǔn)確度和重復(fù)性，也是技術(shù)要求較高的一種方法。在各類企業(yè)生產(chǎn)過(guò)程控制、產(chǎn)品質(zhì)量控制、地質(zhì)礦產(chǎn)分析、環(huán)保材料和科學(xué)研究等領(lǐng)域都廣泛使用。

適用于鋼鐵、水泥、陶瓷、玻璃、耐火材料、有色金屬冶煉、地礦、商檢、涂料、磷化工、鈦白粉，脫硝脫硫催化劑等行業(yè)，礦物、原料、半成品或成品樣品的熔樣。