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IoN系列等離子系統(tǒng)
面議
PVA TePla
IoN系列等離子系統(tǒng)
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IoN 系列等離子機(jī)具有多種射頻電源選項(xiàng),可滿足客戶的特定工藝和產(chǎn)量要求。 我們提供不同腔體和電極配置,**腔體可達(dá) 1200 升。
IoN系列等離子系統(tǒng)是一種高效的工藝設(shè)備,能夠滿足客戶在特定工藝和產(chǎn)量方面的需求。該系列設(shè)備具備多種射頻電源選項(xiàng),能夠靈活應(yīng)對不同的工藝要求。不僅如此,我們還提供多種腔體和電極配置選擇,其中**腔體可容納1200升的處理物料。
作為晶圓清洗去膠領(lǐng)域的專家,我們提供了無損晶圓清洗去膠系統(tǒng)。這款設(shè)備采用了射頻等離子掃膠技術(shù),能夠高效、徹底地去除晶圓上的膠體雜質(zhì)。同時(shí),我們還開發(fā)了射頻等離子清洗機(jī),它能夠?qū)⒕A置于等離子環(huán)境中進(jìn)行全面清洗,確保晶圓表面的無塵無雜質(zhì)。此外,我們還推出了等離子射頻去膠機(jī),這款設(shè)備能夠通過等離子技術(shù)將膠體雜質(zhì)快速有效地去除,為客戶提供高品質(zhì)的清潔解決方案。
無論是晶圓清洗去膠系統(tǒng)還是射頻等離子掃膠機(jī)、射頻等離子清洗機(jī),我們始終致力于為客戶提供**的產(chǎn)品質(zhì)量和優(yōu)質(zhì)的服務(wù)體驗(yàn)。我們的產(chǎn)品具備先進(jìn)的技術(shù)和穩(wěn)定的性能,能夠滿足客戶對于清洗去膠的各種需求。我們將繼續(xù)不斷創(chuàng)新,不斷提升產(chǎn)品性能,為客戶提供更好的晶圓清洗去膠解決方案。
PlasmaPen? 大氣式等離子系統(tǒng)
PlasmaPen? 大氣式等離子機(jī)
射頻等離子機(jī)
IoN系列等離子系統(tǒng)
條形等離子系統(tǒng) 80 Plus
批量封裝處理系統(tǒng) 等離子系統(tǒng) GIGA690
單晶片系統(tǒng)
GIGAbatch 310M等離子系統(tǒng)
SAM 大視場掃描系統(tǒng)
PVA TePla SAM系列的超聲波掃描顯微鏡
VPD量測系統(tǒng)
雷射量測系統(tǒng)
電腦組合體系VG42
重量選別稱
UNI800C多物料配料控制儀
配料計(jì)量系統(tǒng)
在線HPXRF檢測設(shè)備
PicoFemto掃描電鏡原位液體-電化學(xué)測量系統(tǒng)
片式電容四參數(shù)測試機(jī)
0~10%糖度
三路浮子流量計(jì) MFC-3F
Oilwear 在線油液清潔度檢測儀
GJT-2F系列金屬探測儀
YB-JZX小量程自動檢重秤