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拉普拉斯低壓水平磷擴(kuò)散設(shè)備 LRP430
面議
拉普拉斯
拉普拉斯低壓水平磷擴(kuò)散設(shè)備 LRP430
1222
設(shè)備的應(yīng)用及特點(diǎn):
應(yīng)用:
本設(shè)備適合156-210mm硅片生產(chǎn),無(wú)傳統(tǒng)技術(shù)的搭片及其帶來(lái)的方阻均勻性問(wèn)題,更高的方阻均勻性為客戶(hù)帶來(lái)更窄的效率分布和更高的電性能良率。更高的方阻均勻性為下一代高方阻工藝提供了可能,能幫助客戶(hù)進(jìn)一步提升轉(zhuǎn)換效率和競(jìng)爭(zhēng)力。本設(shè)備具有行業(yè)內(nèi)**產(chǎn)能,能幫助客戶(hù)降低固定資產(chǎn)投入和運(yùn)營(yíng)成本。
產(chǎn)品特點(diǎn):
1. 水平放片,管內(nèi)空間利用率高,能耗低;
2. 硅片方向與氣流方向一致,硅片對(duì)氣流阻擋小,片內(nèi)/片間均勻性更優(yōu);
3. 自重?cái)D壓,減少硅片間間隙,繞擴(kuò)/繞鍍可控;
4. 水平放片,更適合超大,超薄硅片生產(chǎn);
5. 電池技術(shù)適用性和通用性高,可用于PERC,TOPCon等各種電池結(jié)構(gòu);
6. 整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),兼容性好,可相互升級(jí)轉(zhuǎn)換;
產(chǎn)品咨詢(xún)
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